公开(公告)号：CN105658702B

公开(公告)日：2018-08-07

申请号：CN201580002310.X

申请日：2015-08-28

申请人： LTC有限公司

发明人： 金俊永 ,  金华泳 ,  赵详焄 ,  柳匡铉 ,  崔好星

IPC分类号： C08G77/16 ,  G02F1/1333 ,  H01L27/32 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08G77/04 ,  C08G77/14 ,  C08G77/18 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/136227 ,  G02F2001/133357 ,  G02F2202/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  H01L27/3246 ,  H01L27/3258 ,  H01L2227/323

摘要： 本发明涉及液晶显示装置或有机电致发光显示装置用高耐热性倍半硅氧烷(Silsesquioxane)类感光性树脂组合物及由其制备而成的正性光致抗蚀剂绝缘膜,详细地涉及高耐热性,低介电特性的倍半硅氧烷感光性树脂组合物,可用于形成薄膜晶体管(TFT)的导通孔(via hole)的绝缘膜,并且同时可用作用于区别形成有机电致发光显示装置的像素的分区(bank)图案的绝缘膜。

公开(公告)号：CN108363273A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201810099833.6

申请日：2018-01-31

申请人： 德淮半导体有限公司

发明人： 龙海凤 ,  李天慧 ,  藤井光一

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2002 ,  G03F7/70091

摘要： 一种光刻机及光刻方法，包括沿光路依次设置的光源、挡板、光阑、光学元件、掩膜版、投影透镜和基片；所述光阑包括透光区域；所述光阑用于过滤所述光源的光，使得0级光与1级光叠加的部分通过。上述方案的光刻机保留0级光与1级光叠加的部分，过滤掉0级光与1级光的未叠加部分，进而保证光刻图形的均匀性，提高光刻图案对比度，从而提高光刻机的性能。

公开(公告)号：CN104302349B

公开(公告)日：2018-06-05

申请号：CN201380025634.6

申请日：2013-03-15

申请人： 新加坡国立大学

发明人： 康立峰 ,  陈瑞容 ,  加斯普瑞特·辛格·科赫哈 ,  吴伟江

IPC分类号： A61M37/00 ,  A61M5/158 ,  B81C1/00

CPC分类号： A61M37/0015 ,  A61M2037/0053 ,  G03F7/2002

摘要： 本公开总体上涉及微针设备以及用于使用光刻术由生物相容聚合物制造微针的方法。更具体而言，本公开的方面针对使用生物相容聚合物(生物聚合物)通过生物相容、基本上生物相容或者充分地生物相容的制造技术制造微针设备。

公开(公告)号：CN107735727A

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：CN201680039637.9

申请日：2016-05-26

申请人： 阿科玛法国公司 ,  国家科学研究中心 ,  波尔多理工学院 ,  波尔多大学

发明人： X.舍瓦利耶 ,  C.尼科利特 ,  C.纳瓦罗 ,  G.哈德齐奥安努

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002

摘要： 本发明涉及用于控制嵌段共聚物(BCP1)的顶部界面处的表面能的方法，以便获得垂直于顶部界面和底部界面两者的所述嵌段共聚物(BCP1)的纳米畴取向，所述嵌段共聚物(BCP1)的底部界面与基底的预中性化的表面接触，所述方法在于用上表面中性化层(TC)覆盖所述嵌段共聚物(BCP1)的上表面，且所述方法的特征在于所述上表面中性化层(TC)由第二嵌段共聚物(BCP2)组成。

公开(公告)号：CN107533288A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201580079314.8

申请日：2015-05-28

申请人： 英特尔公司

发明人： M.克里萨克 ,  R.L.布里斯托尔 ,  P.A.尼胡斯 ,  M.J.利森

IPC分类号： G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/76816 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/095 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76808 ,  H01L21/76897 ,  H01L23/49827

摘要： 本发明的实施例包括光致抗蚀剂材料和图案化光致抗蚀剂材料的方法。在实施例中，光致抗蚀剂材料包括多个分子玻璃（MG）。在实施例中，光致抗蚀剂材料的玻璃转变温度Tg小于对来自MG的阻断基团去阻断所需的活化温度。实施例包括图案化光致抗蚀剂材料的方法，所述方法包括利用紫外辐射来曝光光致抗蚀剂材料。所述方法还可以包括：在第一温度处执行第一曝光后烘焙，其中所述第一温度小于对来自MG的阻断基团去阻断所需的活化温度，以及在第二温度处执行第二曝光后烘焙，所述第二温度大约等于或大于对来自MG的阻断基团去阻断所需的活化温度。

公开(公告)号：CN105319860B

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201510193413.0

申请日：2015-04-22

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 卢彦丞 ,  许家豪 ,  游信胜 ,  陈家桢 ,  陈政宏 ,  严涛南

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/72

CPC分类号： G03F7/2002 ,  G02B26/06 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/7065

摘要： 根据一些实施例，本发明提供了一种缓解用于ID图案的缺陷适印性的方法。该方法包括：将掩模加载至光刻系统，掩模包括一维集成电路(IC)图案；利用光刻系统中的光瞳相位调制器来调制从掩模衍射的光的相位；以及利用掩模和光瞳相位调制器，在光刻系统中对目标执行光刻曝光工艺。

公开(公告)号：CN105552241B

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：CN201610021323.8

申请日：2016-01-13

申请人： 京东方科技集团股份有限公司

发明人： 李延钊 ,  陈卓 ,  何月娣 ,  孙杰

IPC分类号： H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/54 ,  H01L51/56 ,  H01L27/12 ,  H01L21/77 ,  H01L27/32

CPC分类号： H01L51/0018 ,  G03F7/094 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/26 ,  H01L21/77 ,  H01L27/12 ,  H01L27/32 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0037 ,  H01L51/0039 ,  H01L51/0077 ,  H01L51/0079 ,  H01L51/0092 ,  H01L51/50 ,  H01L51/502 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56

摘要： 提供一种可交联的量子点(QD)及其制备方法、一种利用该可交联的量子点(QD)制备的阵列基板及该阵列基板的制备方法。所述可交联量子点的表面具有可发生反应从而形成交联网络的基团对R1和R2，或者所述可交联量子点的表面具有可由交联剂交联从而形成交联网络的基团R3。

公开(公告)号：CN107015442A

公开(公告)日：2017-08-04

申请号：CN201710046251.7

申请日：2017-01-22

申请人： 株式会社迪思科

发明人： 关家一马

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2035 ,  G03F7/70266

摘要： 提供一种曝光装置，使曝光装置低成本。该曝光装置包含光源(3)、照明光学系统(4)、掩模以及投影光学系统(5)，掩模构成为形成有多个小掩模(60A～60D)，该小掩模(60A～60D)由将构成1个器件的图案分割成多个区域而得的小图案构成。投影光学系统(5)由与小掩模(60A～60D)对应的大小构成，小图案被缩小投影在基板上。不需要由要求像差的精度的、价格高昂的透镜构成的投影光学系统，能够使用由投影面积小的像差的影响少的小型的透镜构成的投影光学系统，能够低成本地提供曝光装置。

公开(公告)号：CN107001650A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580045650.0

申请日：2015-06-16

申请人： 美国道康宁公司

发明人： C·M·安博 ,  R·S·约翰 ,  W·K·维德纳

IPC分类号： C08J3/24 ,  C08J7/18 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08G77/80 ,  C08J3/24 ,  C08J7/18 ,  G02B6/122 ,  G02B6/132 ,  G02B6/30 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38

摘要： 本发明公开了一种用于制备制品的方法，所述方法包括将第一组合物施加在基底上以形成第一层，并且将固化条件施加到所述第一层的靶标部分，而不将所述固化条件施加到所述第一层的非靶标部分，以形成第一对比层。然后将第二组合物施加在所述第一对比层上以形成第二层，并且将固化条件施加到所述第二层和所述第一对比层的靶标部分，而不将所述固化条件施加到所述第二层和所述第一对比层的非靶标部分，以形成第二对比层。可任选地以相同方式将第三组合物施加在所述第二对比层上并使之固化，以形成具有固化部分和未固化部分的第三对比层。然后选择性地去除这些对比层的所述未固化部分以制备所述制品。

公开(公告)号：CN106990675A

公开(公告)日：2017-07-28

申请号：CN201610981587.8

申请日：2016-11-09

申请人： 保定来福光电科技有限公司

发明人： 张惠光

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/2002 ,  G03F9/7003

摘要： 本发明公开了一种双面对位的曝光机对位台，包括底座、第一台板和第二台板，第一台板被第一驱动装置驱动相对于底座运动，第二台板被第二装置驱动相对于第一台板运动，也可以与第一台板一起同步运动，在第一台板上安有PCB板支撑架吸附固定件，在第二台板上安有下菲林框架吸附固定件。该对位台能够在不依赖通孔靶点、不翻转PCB板的情况下将PCB板分别与上下菲林进行对位，而且能够使体积更加紧凑，针对现有曝光机的有限空间直接替换原有对位机构，将原来需翻转PCB板进行的两次单面对位变成不翻转PCB板的双面对位。