公开(公告)号：CN105541659A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201510923408.0

申请日：2004-02-09

申请人： 西巴特殊化学品控股有限公司

发明人： H.亚马托 ,  T.阿萨库拉 ,  A.马特苏莫托 ,  P.穆雷尔 ,  T.欣特尔曼

IPC分类号： C07C251/48 ,  C07C381/00 ,  C07D209/86 ,  C07D307/91 ,  C07D333/76 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： C07C251/48 ,  B33Y70/00 ,  C07C381/00 ,  C07C2603/18 ,  C07C2603/20 ,  C07C2603/40 ,  C07D209/86 ,  C07D307/91 ,  C07D333/76 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

摘要： 本申请涉及卤代肟衍生物和其作为潜在的酸的用途。本申请提供了式(I)或(II)的化合物，(II)，其中R1是C1－C10卤代烷基磺酰基，卤代苯磺酰基，C2－C10卤代烷酰基，卤代苯甲酰基；R2是卤素或C1－C10卤代烷基；Ar1是苯基，联苯基，芴基，萘基，蒽基，菲基，或杂芳基，所有的这些都是任选被取代的；Ar＇1是例如亚苯基，亚萘基，二亚苯基，亚杂芳基，氧基二亚苯基，亚苯基D－D1－D－亚苯基或－Ar＇＇1－A1－Y1－A1－Ar＇＇1－；其中这些基团是任选被取代的；Ar＇＇1是亚苯基，亚萘基，亚蒽基，亚菲基，或亚杂芳基，所有的这些都是任选被取代的；A1是例如直接的键，－O－，－S－或－NR6－；Y1特别是C1－C18亚烷基；X是卤素；D是例如－O－，－S－或－NR6－；D1特别是C1－C18亚烷基；在ArF抗蚀剂技术中特别适合作为光致潜在的(photolatent)酸。