公开(公告)号：CN1721580A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510081363.3

申请日：2005-06-28

Applicant: 西门子公司

Inventor： 厄休斯·克鲁格 ,  丹尼尔·科特维尔耶西 ,  拉尔夫·赖歇 ,  简·斯坦巴克 ,  加布里埃尔·温克勒

IPC: C25F5/00

CPC classification number: C25F7/00 ,  C25D5/18 ,  C25D21/12 ,  C25F5/00

Abstract: 承受工作负荷的构件往往可以通过酸处理重新投入使用。构件在酸内保持的持续时间迄今凭经验确定，从而没有考虑个性化的要求。按本发明的处理构件表面的方法建议，在构件上至少重复施加一测量电压(33)，由此形成一流动电流I(t)，该电流随时间的变化过程表示表面处理的状态并被用来判定是否终止或中断所述酸处理。

公开(公告)号：CN1599655A

公开(公告)日：2005-03-23

申请号：CN02824300.5

申请日：2002-11-08

Applicant: 西门子公司

Inventor： 博里斯·巴布拉思 ,  费利克斯·埃尔宾 ,  马克·克里格 ,  格哈德·赖克 ,  拉尔夫·赖歇 ,  西尔克·塞特加斯特

IPC: B24C1/08 ,  B24C1/00 ,  B23P6/00

CPC classification number: B24C1/083 ,  B23P2700/06 ,  B24C1/003 ,  B24C1/08 ,  B24C1/086

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光燃气轮机叶片(20)的一表面(24)的方法和设备。按本发明，一金属的防腐层(32)借助一干冰射流(14)来抛光，由此避免了所述表面(24)沾染杂质并获得成本方面的优点。

公开(公告)号：CN1456704A

公开(公告)日：2003-11-19

申请号：CN03123484.4

申请日：2003-05-09

Applicant: 西门子公司

Inventor： 乌尔里克·巴斯特 ,  罗曼·拜尔 ,  拉尔夫·赖歇

IPC: C23C16/52 ,  G01B7/06

CPC classification number: C23C14/545 ,  C23C2/14 ,  C23C4/12 ,  C23C4/16 ,  C23C16/52 ,  G01B7/06

Abstract: 根据现有技术，在镀膜处理期间确定膜层厚度花费很大。其中，为了检查膜层厚度，必须切割参考样本并由此破坏参考样本。只有当参考样本具有所期望的膜层厚度时，才能采用与参考样本一起镀膜的元件。按照本发明的一种用于确定膜层厚度的方法允许在镀膜处理期间就地确定膜层厚度，其中，采用了一个传感器，该传感器通过镀膜过程以典型方式按获得各膜层的厚度改变所测量的电特性。

公开(公告)号：CN100594260C

公开(公告)日：2010-03-17

申请号：CN200510065204.4

申请日：2005-04-14

Applicant: 西门子公司

Inventor： 勒内·杰巴多 ,  厄休斯·克鲁格 ,  丹尼尔·科特维莱西 ,  沃尔克马·卢西恩 ,  拉尔夫·赖歇 ,  迈克尔·林德勒 ,  雷蒙德·乌尔里克

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/06 ,  C23C16/22

CPC classification number: F01D5/186 ,  C23C18/08 ,  C23C18/1208 ,  C23C18/1233 ,  C23C18/127 ,  C23C18/1283 ,  F01D5/005 ,  F05D2230/30 ,  Y02T50/67 ,  Y02T50/676 ,  Y10T428/12535

Abstract: 本发明公开了一种用于对带有一空腔(4)的一构件(1)的内表面敷设涂层的方法，而按照现有技术常常无法获得均匀的涂层。按照本发明，将一涂层材料与一基材混合并将它们填入到所述空腔(4)中，其中，所述基材在涂层材料的汽化温度下分解或在尚未达到该汽化温度时就已分解，以及，所述涂层材料经过气相沉淀到所述构件(1)上。

公开(公告)号：CN1729314A

公开(公告)日：2006-02-01

申请号：CN200380106920.1

申请日：2003-12-16

Applicant: 西门子公司

Inventor： 马克·德沃格莱里 ,  丹尼尔·科特维莱西 ,  拉尔夫·赖歇 ,  赖纳·安东

IPC: C25D5/18

CPC classification number: C25D5/18 ,  C25D5/20

Abstract: 迄今为止的电解沉积方法只能较差地将合金的成分沉积到一基底上。而按照本发明的方法通过使所述用于电解沉积的电流/电压脉动来实现将一合金层沉积到一基底(13)上。

公开(公告)号：CN1729313A

公开(公告)日：2006-02-01

申请号：CN200380106919.9

申请日：2003-12-01

Applicant: 西门子公司

Inventor： 厄萨斯·克鲁格 ,  丹尼尔·科特维莱西 ,  拉尔夫·赖歇 ,  马克·德沃格莱尔

IPC: C25D5/02 ,  C25D5/00 ,  C25D5/18

CPC classification number: C25D5/02 ,  C25D5/00 ,  C25D5/18 ,  C25D21/02

Abstract: 本发明涉及一种用于填充一表面上的材料断口的方法和装置。在按照现有技术的方法中，为了填充材料断口，基底通常受到高作业温度以及类型不同的填料的不利影响。按照本发明的方法可以在低温下实施以及在不采用不同类型材料的情况下实现彻底填充材料断口，并因此克服上述缺点。

公开(公告)号：CN1784509A

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：CN200480011891.5

申请日：2004-04-08

Applicant: 西门子公司

Inventor： 厄萨斯·克鲁格 ,  丹尼尔·科尔特维利西 ,  拉尔夫·赖歇 ,  简·斯坦巴克 ,  加布里埃尔·温克勒

IPC: C23F1/16 ,  C25F5/00 ,  C25F7/00

CPC classification number: C25F5/00

Abstract: 工作中承受应力的构件常常通过酸处理被重新利用。所述构件在酸中停留的时间迄今为止按标准确定，这使得个别的应力承受情况不能得到充分考虑。按照本发明的用于去除一个构件上的涂层的方法为此建议，至少反复将一个测量电压施加在所述构件上，由此形成一个流动的测量电流(I)，该电流随时间的变化曲线(I(t))描述所述去除涂层过程的状况，并被用于判断何时终止或中断所述酸处理。

公开(公告)号：CN1688749A

公开(公告)日：2005-10-26

申请号：CN03823835.7

申请日：2003-08-20

Applicant: 西门子公司

Inventor： 迈克尔·奥特 ,  拉尔夫·赖歇 ,  奈杰尔-菲利普·考克斯 ,  尤塔·梅尔 ,  罗纳德·齐默

IPC: C23G1/32 ,  C23F1/44 ,  F01D5/00

CPC classification number: F01D5/005 ,  C23F1/44 ,  C23G1/32

Abstract: 根据现有技术除去构件层区域的方法(剥离)导致不良的结果，因为例如以不均匀的方式进行除去。此外，已知方法耗时。根据本发明的用来除去构件层区域的方法包括，将所要除去的层区域首先用盐浸液然后用酸处理，其中在一个中间或终末步骤中将该构件用络合物成形剂处理。

公开(公告)号：CN100545311C

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200480011891.5

申请日：2004-04-08

Applicant: 西门子公司

Inventor： 厄萨斯·克鲁格 ,  丹尼尔·科尔特维利西 ,  拉尔夫·赖歇 ,  简·斯坦巴克 ,  加布里埃尔·温克勒

IPC: C23F1/16 ,  C25F5/00 ,  C25F7/00

CPC classification number: C25F5/00

Abstract: 工作中承受应力的构件常常通过酸处理被重新利用。所述构件在酸中停留的时间迄今为止按标准确定，这使得个别的应力承受情况不能得到充分考虑。按照本发明的用于去除一个构件上的涂层的方法为此建议，至少反复将一个测量电压施加在所述构件上，由此形成一个流动的测量电流(I)，该电流随时间的变化曲线(I(t))描述所述去除涂层过程的状况，并被用于判断何时终止或中断所述酸处理。

公开(公告)号：CN101218373A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200680024592.4

申请日：2006-07-03

Applicant: 西门子公司

Inventor： 勒内·雅巴多 ,  乌尔苏斯·克吕格尔 ,  丹尼尔·克尔特韦耶希 ,  福尔克马尔·吕特恩 ,  拉尔夫·赖歇 ,  米夏埃尔·林德勒

IPC: C23C24/04 ,  C23C24/00

CPC classification number: C23C24/00 ,  C23C26/00

Abstract: 本发明涉及一种用于在衬底(100)上生产具有纳米颗粒(40)的层(110)的方法。本发明的目的在于提供一种用于生产包含纳米颗粒的层的方法，该方法可以特别简单地实施，尽管如此在待生产的层的结构和组成上还是可以提供非常大的灵活性。该目的根据本发明这样地实现，即在第一处理室(10)中释放纳米颗粒(40)并且生成纳米颗粒流(50)，该纳米颗粒流(50)被输送到第二处理室(80)中，并且纳米颗粒(40)在第二处理室(80)中被沉积在衬底(100)上。