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公开(公告)号：CN112368063B
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN201980039572.1
申请日：2019-05-16
申请人： 西默有限公司
摘要： 一种系统包括：被配置为发射脉冲光束的光学源，光学源包括一个或多个腔室，一个或多个腔室中的每个腔室被配置为容纳气态增益介质，气态增益介质与假定气体寿命相关联；被配置为接收和分析与脉冲光束相关的数据并且基于与脉冲光束相关的数据产生光束质量指标的至少一个检测模块；以及监测模块，该监测模块被配置为分析光束质量指标，基于对光束质量指标的分析确定气态增益介质的健康状态，以及基于所确定的健康状态产生状态信号，状态信号指示是将气态增益介质的使用延长至超出假定气体寿命还是结束气态增益介质的使用。
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公开(公告)号：CN112368063A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980039572.1
申请日：2019-05-16
申请人： 西默有限公司
摘要： 一种系统包括：被配置为发射脉冲光束的光学源，光学源包括一个或多个腔室，一个或多个腔室中的每个腔室被配置为容纳气态增益介质，气态增益介质与假定气体寿命相关联；被配置为接收和分析与脉冲光束相关的数据并且基于与脉冲光束相关的数据产生光束质量指标的至少一个检测模块；以及监测模块，该监测模块被配置为分析光束质量指标，基于对光束质量指标的分析确定气态增益介质的健康状态，以及基于所确定的健康状态产生状态信号，状态信号指示是将气态增益介质的使用延长至超出假定气体寿命还是结束气态增益介质的使用。
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公开(公告)号：CN110651228B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201880033471.9
申请日：2018-04-02
申请人： 西默有限公司
摘要： 监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。
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公开(公告)号：CN115931631A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202310004711.5
申请日：2019-05-16
申请人： 西默有限公司
摘要： 本公开涉及一种气体监测系统。一种系统包括：被配置为发射脉冲光束的光学源，光学源包括一个或多个腔室，一个或多个腔室中的每个腔室被配置为容纳气态增益介质，气态增益介质与假定气体寿命相关联；被配置为接收和分析与脉冲光束相关的数据并且基于与脉冲光束相关的数据产生光束质量指标的至少一个检测模块；以及监测模块，该监测模块被配置为分析光束质量指标，基于对光束质量指标的分析确定气态增益介质的健康状态，以及基于所确定的健康状态产生状态信号，状态信号指示是将气态增益介质的使用延长至超出假定气体寿命还是结束气态增益介质的使用。
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公开(公告)号：CN112703451A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201980059291.2
申请日：2019-08-15
申请人： 西默有限公司
发明人： A·多罗班图 , J·A·科亨 , K·R·古文丹·拉朱 , W·D·吉莱斯皮 , E·S·格罗斯 , R·C·乌亚德沃斯基
摘要： 一种光源装置包括气体放电台，其包括：三维本体，该三维本体限定空腔，该空腔被配置为与能量源交互，该本体包括至少两个端口，该至少两个端口可以透射波长在紫外线范围内的光束；传感器系统，其包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体的相应不同区域相对于该传感器的物理方面；以及控制装置，其与传感器系统通信。控制装置被配置为分析从传感器测量的物理方面，从而确定气体放电台的本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中X轴由气体放电台的几何形状限定。
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公开(公告)号：CN110651228A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201880033471.9
申请日：2018-04-02
申请人： 西默有限公司
摘要： 监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。
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