公开(公告)号：CN103748967A

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：CN201280040305.4

申请日：2012-07-10

申请人： 西默有限公司

发明人： M·R·格雷厄姆 ,  S·常 ,  J·H·克鲁奇 ,  I·V·福缅科夫

IPC分类号： H05G2/00

CPC分类号： G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

摘要： 一种设备，包括：产生沿驱动轴传播的放大光束脉冲的驱动激光系统；将放大光束脉冲朝向目标区域引导的光束传输系统；在目标区域内提供包含靶材料的目标混合物的靶材料运送系统；与横跨目标区域的主轴径向分离的两个或更多传感器，两个或更多传感器被配置成检测当放大光束脉冲与目标混合物相遇时从等离子态的靶材料发射的紫外电磁辐射的能量；以及接收来自两个或更多传感器的输出的控制器。控制器被配置成基于对所检测到的能量进行的分析估计在目标区域内目标混合物和驱动轴之间的相对径向对准。

公开(公告)号：CN110651228A

公开(公告)日：2020-01-03

申请号：CN201880033471.9

申请日：2018-04-02

申请人： 西默有限公司

发明人： A·多罗班图 ,  M·R·格雷厄姆 ,  J·J·索内斯 ,  K·M·奥布里恩

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/54 ,  G03C5/00

摘要： 监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。

公开(公告)号：CN110651228B

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN201880033471.9

申请日：2018-04-02

申请人： 西默有限公司

发明人： A·多罗班图 ,  M·R·格雷厄姆 ,  J·J·索内斯 ,  K·M·奥布里恩

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/54 ,  G03C5/00

摘要： 监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。