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公开(公告)号：CN1570765A
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：CN03132821.0
申请日：2003-07-21
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种具有均匀反应性的正型光阻剂组合物，涂布后分别在不同制程步骤进行热交联反应及光分解反应而形成图形线路。这一新型的光阻剂组合物由一多组分树脂组合物、一光酸产生剂及一反应性单体所组成。当光阻剂组合物在软烤(soft－baking)时，该反应性单体与该多组分树脂组合物先形成一具有网状结构的聚合物。接着光阻剂组合物在曝光光源照射下，所产生的酸会使光阻剂中的多组分树脂分别进行化学增幅型树脂去保护基反应，以及网状结构树脂的光分解反应。因此，本发明所述的正型光阻剂由于其较佳的碱性对比能力及均匀的反应性，在微影制程时可得到较佳的光阻深宽比及分辨率。
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公开(公告)号：CN1303876A
公开(公告)日：2001-07-18
申请号：CN99126266.2
申请日：1999-12-22
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
IPC分类号： C08F222/08 , C08F220/02 , G03F7/027
摘要： 一种可作为感光性树脂的含不饱合键支链的共聚物,其是含不饱合键的单体和含不饱合键的酸酐单体的共聚物,该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的酸酐官能团与含不饱合键的醇类经酯化开环反应而单酯化,并产生羧酸基团,该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的羧酸基团被环氧乙基化合物经环氧基开环反应而成为酯基。本发明还涉及含该共聚物的光致抗蚀剂组合物及其在印刷电路板制程中的应用,其具有良好的光敏性、解析度和耐电镀特性。
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公开(公告)号：CN1280676C
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN03132821.0
申请日：2003-07-21
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种具有均匀反应性的正型光阻剂组合物，涂布后分别在不同制程步骤进行热交联反应及光分解反应而形成图形线路。这一新型的光阻剂组合物由一多组分树脂组合物、一光酸产生剂及一反应性单体所组成。当光阻剂组合物在软烤(soft-baking)时，该反应性单体与该多组分树脂组合物先形成一具有网状结构的聚合物。接着光阻剂组合物在曝光光源照射下，所产生的酸会使光阻剂中的多组分树脂分别进行化学增幅型树脂去保护基反应，以及网状结构树脂的光分解反应。因此，本发明所述的正型光阻剂由于其较佳的碱性对比能力及均匀的反应性，在微影制程时可得到较佳的光阻深宽比及分辨率。
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公开(公告)号：CN1114629C
公开(公告)日：2003-07-16
申请号：CN99126266.2
申请日：1999-12-22
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
IPC分类号： C08F222/08 , C08F220/02 , G03F7/027
摘要： 一种可作为感光性树脂的含不饱合键支链的共聚物，其是含不饱合键的单体和含不饱合键的酸酐单体的共聚物，该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的酸酐官能团与含不饱合键的醇类经酯化开环反应而单酯化，并产生羧酸基团，该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的羧酸基团被环氧乙基化合物经环氧基开环反应而成为酯基。本发明还涉及含该共聚物的光致抗蚀剂组合物及其在印刷电路板制程中的应用，其具有良好的光敏性、解析度和耐电镀特性。
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公开(公告)号：CN1280675C
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN03101762.2
申请日：2003-01-22
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
摘要： 本发明涉及一种多重反应模式的混合负型光阻剂及形成光阻图案的方法；该混合负型光阻剂包括树脂化合物、重量百分比为0.1-35%的光聚合起始剂、重量百分比为0.1-100%的自由基反应性单体、重量百分比为0.1-35%的光酸产生剂、及重量百分比为0.1-35%的阳离子反应性单体；其中该重量百分比以树脂化合物的重量为基准；采用本发明的光阻剂及形成光阻图案的方法，可以用来控制光阻剂的光反应效率并增加反应完整度，得到更佳的光阻分辨率。
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公开(公告)号：CN1519650A
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN03101762.2
申请日：2003-01-22
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
摘要： 本发明涉及一种多重反应模式的混合负型光阻剂及形成光阻图案的方法；该混合负型光阻剂包括树脂化合物、重量百分比为0.1－35％的光聚合起始剂、重量百分比为0.1－100％的自由基反应性单体、重量百分比为0.1－35％的光酸产生剂、及重量百分比为0.1－35％的阳离子反应性单体；其中该重量百分比以树脂化合物的重量为基准；采用本发明的光阻剂及形成光阻图案的方法，可以用来控制光阻剂的光反应效率并增加反应完整度，得到更佳的光阻分辨率。
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公开(公告)号：CN103673448A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201210459094.X
申请日：2012-11-14
申请人： 财团法人工业技术研究院
摘要： 本发明公开一种冷却装置，其包括载体以及平板式冷却导管。该平板式冷却导管由高导热材料所构成，其设置于该载体上，并包括导管部以及平板部。该导管部具有导通孔，用以传导冷却液。该平板部贴覆于该载体，使该冷却液借由该平板部与该载体间的接触面积进行热交换。借此，本发明可提高该冷却装置的热交换效率，以有效降低该载体的温度。
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公开(公告)号：CN103157807A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201210108083.7
申请日：2012-04-13
申请人： 财团法人工业技术研究院
CPC分类号： B22F9/18 , B22F1/0025 , B22F9/24 , B22F2301/255 , B82Y40/00
摘要： 本发明提供一种纳米银线之制备方法，包含：提供第一溶液；混合该第一溶液与该第二溶液得到具有多条纳米银线之第三溶液；以及，纯化该第三溶液，得到该纳米银线。其中，该第一溶液包含保护剂分散于第一醇类溶剂中，而该第二溶液包含银盐以及金属前驱物分散于第二醇类溶剂中，其中该金属前驱物具有化学式表示如下：MXn或MXn·m(H2O)，其中，M为Cu2+、Sn4+、或Ni2+，X为Cl-、Br-、I-、SCN-、SO42-、或C2O42-，n为1-4，m为1-6，且M的价数等于n乘以X的价数之绝对值。
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公开(公告)号：CN1232560C
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN02124404.9
申请日：2002-06-27
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
IPC分类号： C08G59/16
摘要： 本发明提供一种含异原子的聚合物，其通过以下方法制得：将一含环氧乙烷基的聚合物与一单羧酸化合物反应，以进行环氧乙烷基开环反应，并产生一醇基，其中该单羧酸化合物包括一含有异原子的单羧酸化合物，该异原子选自于由硫、氮、及其混合物所组成的族群。通过含硫和/或氮原子基团的导入，含有此聚合物的光阻剂与金属之间的附着力可得以提高。
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公开(公告)号：CN1465606A
公开(公告)日：2004-01-07
申请号：CN02124404.9
申请日：2002-06-27
申请人： 财团法人工业技术研究院 , 长春人造树脂厂股份有限公司
IPC分类号： C08G59/16
摘要： 本发明提供一种含异原子的聚合物，其通过以下方法制得：将一含环氧乙烷基的聚合物与一单羧酸化合物反应，以进行环氧乙烷基开环反应，并产生一醇基，其中该单羧酸化合物包括一含有异原子的单羧酸化合物，该异原子选自于由硫、氮、及其混合物所组成的族群。通过含硫和/或氮原子基团的导入，含有此聚合物的光阻剂与金属之间的附着力可得以提高。
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