一种基于转印工艺的金属微纳结构制备方法及装置

    公开(公告)号:CN118811769A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410950433.7

    申请日:2024-07-16

    Abstract: 本发明涉及金属微纳结构制备技术领域,尤其是一种基于转印工艺的金属微纳结构制备方法及装置,其一种基于转印工艺的金属微纳结构制备方法包括以下步骤S1、制备转印载体,转印载体分为载体层、脱模层、转印层;S1.1、在载体层表面制备具有特定形状的图案化微纳凸结构;S1.2、在图案化微纳凸结构表面沉积一层低熔点材料作为脱模层;S1.3、在低熔点材料表面制备金属薄膜作为转印层;S2、将转印载体完全贴附在承印基板上并施加一定压力,同时加热使脱模层融化,载体层与转印层脱离,完成金属微纳结构制备。通过转印实现金属微纳结构在多种衬底上的制备,能够大规模精确转印微纳米结构,通过转印可以在多种衬底特别是柔性衬底上形成微纳金属结构。

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