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公开(公告)号：CN111220582A
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201911172989.3
申请日：2019-11-26
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01N21/64
Abstract: 一种检查系统，包括一个或多个处理器，该一个或多个处理器以紫外线(UV)设定获得其上具有荧光染料的工件的第一图像，并且以可见光设定获得工件的第二图像。通过一个或多个成像设备在相对于工件的相同位置产生第一图像和第二图像。一个或多个处理器基于一个或多个像素的光特性来识别第一图像的候选区，并且确定与第一图像的候选区处于类似地点的第二图像的对应候选区。一个或多个处理器分析两个候选区，以检测在工件的表面上的潜在缺陷以及潜在缺陷相对于工件的表面的地点。
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