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公开(公告)号：CN1568301A
公开(公告)日：2005-01-19
申请号：CN02820321.6
申请日：2002-07-30
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 艾伯托·尼索利 , 约翰·Y·奥弗里 , 安杰尔·桑切斯冈萨雷斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN1568300A
公开(公告)日：2005-01-19
申请号：CN02820320.8
申请日：2002-07-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1972982A
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200580020421.X
申请日：2005-04-11
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 玛丽亚·T·马丁内斯 , 艾尔伯托·尼索利 , 艾尔弗雷多·洛佩兹-卡里特罗 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 戴维·多明戈 , 帕特里克·J·麦克洛斯基
IPC: C08G64/30
Abstract: 本发明提供了一种制造聚碳酸酯低聚物、聚碳酸酯、由聚碳酸酯形成的模制品的方法，和一种用于制造聚碳酸酯的装置。低聚物混合物首先通过提供平衡体系的步骤而制备，所述体系包括容器、包含在容器内的反应混合物、和用于混合包含在容器内的反应混合物的装置，其中反应混合物包含熔化的活化碳酸二芳基酯组合物，和以足以引发二羟基组合物和活化碳酸二芳基酯之间低聚反应以形成聚碳酸酯低聚物的量存在的催化剂。该方法进一步包括，将熔化的二羟基组合物引入包含在平衡体系中的反应混合物，将包含在容器内的反应混合物保持在低聚反应温度下，和从平衡体系中连续取出产物物流的步骤，所述低聚反应温度低于二羟基组合物的熔点，和足够高以使均相熔体在容器内形成，其中产物物流包含聚碳酸酯低聚物混合物。该聚碳酸酯低聚物混合物适合用作用于在缩聚体系中生产聚碳酸酯的原料。该聚碳酸酯适用于制备模制品。
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公开(公告)号：CN101081814A
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200710126259.0
申请日：2004-06-15
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 沃特库鲁·L·N·默西 , 伊格纳西奥·F·维克 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 艾伯托·尼索利
IPC: C07C69/96 , C07C68/06 , C07C68/08 , C07C43/205
CPC classification number: C07C68/08 , B01D3/009 , B01D3/146 , C07C41/16 , C07C68/06 , Y02P20/127 , C07C69/96 , C07C43/205
Abstract: 本发明披露了通过在酯交换反应催化剂存在下反应碳酸二烷基酯和芳醇而连续生产烷基芳基醚和碳酸二芳基酯的方法和装置。
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公开(公告)号：CN100439318C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN02820321.6
申请日：2002-07-30
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 艾伯托·尼索利 , 约翰·Y·奥弗里 , 安杰尔·桑切斯冈萨雷斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN1277803C
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN02820320.8
申请日：2002-07-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN1809522A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200480017569.3
申请日：2004-06-15
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 沃特库鲁·L·N·默西 , 伊格纳西奥·F·维克 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 艾伯托·尼索利
CPC classification number: C07C68/08 , B01D3/009 , B01D3/146 , C07C41/16 , C07C68/06 , Y02P20/127 , C07C69/96 , C07C43/205
Abstract: 本发明披露了通过在酯交换反应催化剂存在下反应碳酸二烷基酯和芳醇而连续生产烷基芳基醚和碳酸二芳基酯的方法和装置。
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