用于晶片蚀刻的等离子体腔室及利用等离子体腔室的晶片蚀刻方法

    公开(公告)号:CN118575252A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202280088715.X

    申请日:2022-11-09

    申请人: 金南宪

    发明人: 金南宪

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明涉及一种用于晶片蚀刻的等离子体腔室及利用等离子体腔室的晶片蚀刻方法,本发明的等离子体腔室的特征在于,包括:壳体,其为了通过等离子体来蚀刻晶片而在内部具备反应空间;底板,其具备于上述壳体内部,且安置上述晶片;以及压力调节部,其调节上述壳体内部的压力,上述压力调节部将上述壳体内部的压力调节为50至150毫托(mTorr),本发明的利用等离子体腔室的晶片蚀刻方法的特征在于,包括:通过上述压力调节部将上述壳体内部的压力调节为50至150毫托(mTorr)的压力调节步骤;以及通过上述等离子体源将上述等离子体源的源功率(source power)调节为300至1000W的源功率调节步骤。

    利用平面螺旋线圈的等离子体源
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117693804A

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202280051976.4

    申请日:2022-09-27

    申请人: 金南宪

    发明人: 金南宪

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明涉及一种利用平面螺旋线圈的等离子体源,其特征在于包括:单元线圈,其从单元延伸一端部延伸,并且在一个平面内向单元延伸末端部以圆形延伸,且以复数个堆叠;以及连接部,其在一个单元线圈的所述单元延伸末端部连接另一个单元线圈的所述单元延伸一端部。

    输电、配电、铁道电力线以及各种电缆的固定装置

    公开(公告)号:CN103791163A

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201310261209.9

    申请日:2013-06-27

    IPC分类号: F16L3/06 H02G3/02

    摘要: 本发明涉及一种输电、配电、铁道电力线以及各种电缆的固定装置,具体涉及一种固定用于支撑或固定建筑构造物等的电缆端部,而使其可以始终保持固定状态,从而可以防止因电缆脱离夹具而导致建筑构造物等的崩塌或倾斜以及扭曲现象,同时,可以防止发生人身安全事故的输电、配电、铁道电力线以及各种电缆的固定装置。根据本发明,其特征在于,包括:主体,在所述主体形成有供支撑电缆的一对第1楔子及第2楔子、以及固定电缆的一对第1楔子及第2楔子滑动的引导部;一对第1楔子及第2楔子,其随引导部进行滑动而固定电缆;以及防松动构件,其在固定电缆的状态下,防止一对第1楔子及第2楔子后退而导致电缆从一对第1楔子及第2楔子脱离而被解开。