一种中波红外镜头透过率检测装置

    公开(公告)号:CN116007897A

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202211592773.4

    申请日:2022-12-13

    Abstract: 本发明公开了一种中波红外镜头透过率检测装置,采用兼容性设计对中波红外系统的透过率进行高效测量,并实现各测试模式之间的控制。该装置包括:光学平台、设置在所述光学平台上的光学系统和设置在所述光学系统外的外壳;所述光学系统包括:点光源、参考光路、被测镜头、测试光路和探测器;所述点光源、被测镜头、测试光路和探测器同光轴设置;所述参考光路与所述点光源、被测镜头和探测器离光轴设置;所述探测器接收参考光路和测试光路的光信息对所述被测镜头的透过率进行检测。本发明使用同一套系统,可兼容透射式和反射式光学镜头的透过率的测试,增大的用户的测试范围,极大的提高了设备的通用性能。

    一种研磨液颗粒特性的耗散粒子动力学模拟方法

    公开(公告)号:CN105550474A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201610047943.9

    申请日:2016-01-25

    CPC classification number: G06F17/5009 G06F17/5036

    Abstract: 本发明涉及一种研磨液颗粒特性的耗散粒子动力学模拟方法,具体步骤如下:(1)建立初始结构;(2)优化体系;(3)耗散粒子动力学仿真模拟设置;(4)耗散粒子动力学模拟结果分析;(5)三种不同磨粒晶胞模拟结果分析。本发明选取了碳化硅、三氧化二铝、氮化硼三种常用的磨粒晶胞团簇模型进行DPD仿真模拟,通过建立模型、优化及仿真得到其温度、压力及原子坐标张量及压力差异系数等的变化趋势,并且通过对比三种磨粒模型,分析其介观形态进而对宏观性能进行研究,从中选取更适合实验的磨粒流加工的磨料,最后得到碳化硅磨粒压力及温度变化都较均匀,选取碳化硅颗粒进行下一步仿真模拟的磨粒,为之后进行的磨粒流抛光实验奠定了理论基础。

    一种用于光学元件数控抛光机床

    公开(公告)号:CN101386150B

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN200810051133.6

    申请日:2008-09-03

    Abstract: 一种中大口径非球面光学元件的数控抛光机床,属于光学机械制造技术领域,其特征是:机床主要由底座系统、立柱系统和横梁系统组成,底座系统包括底座、X轴进给系统、A轴翻转进给系统、C轴回转进给系统;横梁系统包括横梁、Y轴进给系统、Z轴进给系统、动力行星抛光头、抛光模。采用四连杆平衡定位机构,实现抛光模(16)平动;有益效果是:光学元件的数控抛光机床采用五轴数控、四轴联动运动方式,利用工件翻转、旋转结构,使抛光位置始终处于水平状态,保证去除函数的高确定性;该机床采用无间隙传动和高精度气动系统控制,保证了抛光过程的运行稳定性,实现了光学元件的数控加工。

    一种介观尺度条件下研磨液颗粒与工件的磨削模拟方法

    公开(公告)号:CN105718682A

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201610047945.8

    申请日:2016-01-25

    CPC classification number: G06F17/5036

    Abstract: 本发明涉及一种介观尺度条件下的研磨液颗粒与工件磨削的数值模拟方法,具体步骤如下:(1)计算模型建立及初始条件;(2)计算模型边界条件的设置;(3)模型网格的划分;(4)仿真分析;(5)加工参数对介观状态模拟的研究:(a)不同浓度对磨粒加工的影响;(b)加工温度对颗粒磨削加工零件的影响;(c)加工速度对颗粒磨削加工零件的影响。通过本发明中的仿真模拟加工,对介观状态下颗粒影响磨粒流加工提供了借鉴,为在实际生产加工过程中提供了理论支持,弥补了宏观和微观状态下研究颗粒磨削的不足,完善了颗粒磨削工件的理论。

    一种异形细长管加工精度的检测方法

    公开(公告)号:CN118608465A

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202410651436.0

    申请日:2024-05-24

    Abstract: 本申请提供了一种异形细长管加工精度的检测方法:通过基于异形细长管检测系统,实时获取异形细长管的待检测图像;基于构建的所述待检测图像的积分图像,采用Hessian矩阵,提取所述待检测图像的特征点;根据所述待检测图像的特征点,计算所述特征点邻域的Haar小波,以确定所述待检测图像的描述向量;计算所述待检测图像的描述向量和预先获取的标准图像的描述向量的欧氏距离,得到所述待检测图像相对于所述标准图像的像素偏差值;根据所述待检测图像的像素偏差值,确定所述异形细长管的形位误差。通过所述检测方法,实现对内孔为圆矩形交叠孔、口径为10mm、检测形位精小于等于50μm的异形细长管加工精度的检测分析。

    光学元件的高精度均匀数控抛光装置

    公开(公告)号:CN101386145A

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200810051134.0

    申请日:2008-09-03

    Abstract: 一种光学元件的高精度均匀数控抛光装置,属于光学机械制造技术领域,其特征是:A轴翻转进给系统由A轴伺服电机作为动力,通过蜗轮蜗杆副、齿轮副带动工件绕A轴作翻转运动;C轴回转进给系统由回转伺服电机作为动力,通过蜗轮蜗杆副最后带动转盘使工件绕C轴作回转运动,蜗轮蜗杆副是消隙滑块结构;动力抛光头系统中抛光模不仅可以平转动,也可以行星转动。有益效果是:改变了抛光点的位置,保证抛光位置始终处于水平状态,确定了高精度均匀数控抛光的方式,使去除函数与实际抛光加工量一致。保证去除函数的高确定性,抛光精度提高为线性趋势,加工效率提高3~5倍。

    一种伺服阀阀芯喷嘴的磨粒流加工实验验证方法

    公开(公告)号:CN105666336A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201610048006.5

    申请日:2016-01-25

    CPC classification number: B24C1/08 G01D21/00

    Abstract: 本发明涉及一种伺服阀阀芯喷嘴的磨粒流加工实验验证方法,利用磨粒流加工技术对伺服阀阀芯喷嘴进行微小孔径通道内表面的抛光加工,实验结束后,为了对其通道内表面的检测,首先需要将已加工工件线切割,零件清洗之后,然后采用相应的检测仪器检测工件内表面的表面粗糙度以及表面形貌和工件的元素成分,具体包括以下方面及步骤:(1)实验工件;(2)高倍显微镜下的检测结果分析;(3)表面粗糙度的检测结果分析。(4)表面形貌的检测结果分析:(a)表面质量的验证分析;(2)小孔区域的预测验证分析。本发明论证了磨粒流加工技术的有效性,磨料介质的微磨损机理以及加工预测的论证。

    一种用于光学元件数控抛光机床

    公开(公告)号:CN101386150A

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200810051133.6

    申请日:2008-09-03

    Abstract: 一种中大口径非球面光学元件的数控抛光机床,属于光学机械制造技术领域,其特征是:机床主要由底座系统、立柱系统和横梁系统组成,底座系统包括底座、X轴进给系统、A轴翻转进给系统、C轴回转进给系统;横梁系统包括横梁、Y轴进给系统、Z轴进给系统、动力行星抛光头、抛光模。采用四连杆平衡定位机构,实现抛光模16平动;有益效果是:光学元件的数控抛光机床采用五轴数控、四轴联动运动方式,利用工件翻转、旋转结构,使抛光位置始终处于水平状态,保证去除函数的高确定性;该机床采用无间隙传动和高精度气动系统控制,保证了抛光过程的运行稳定性,实现了光学元件的数控加工。

    光学元件的行星主动抛光装置及方法

    公开(公告)号:CN101386144A

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200810051132.1

    申请日:2008-09-03

    Abstract: 一种光学元件的行星主动抛光装置及方法,属于光学机械制造技术领域,其特征是:抛光模与动力行星抛光头之间通过球头柔性连接,柱塞推动球头顶杆将抛光模压向工件的抛光表面;抛光头装置采用平行四连杆平衡定位机构;由行星电机传动通过软轴、传动机构传动给抛光模作行星动力转动;通过调节螺杆,调整抛光模的位置可获得不同公转半径。有益效果是:抛光模与抛光磨头之间通过球头柔性连接,便于压缩空气通过导气管输送到抛光头,保证抛光模与工件表面良好的贴合,保证抛光压力均衡和不变,避免了抛光头对光学玻璃元件的冲击造成光学元件的损坏。

    一种用于光学元件数控抛光机床

    公开(公告)号:CN201283534Y

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200820072377.8

    申请日:2008-09-03

    Abstract: 一种中大口径非球面光学元件的数控抛光机床,属于光学机械制造技术领域,其特征是:机床主要由底座系统、立柱系统和横梁系统组成,底座系统包括底座、X轴进给系统、A轴翻转进给系统、C轴回转进给系统;横梁系统包括横梁、Y轴进给系统、Z轴进给系统、动力行星抛光头、抛光模。采用四连杆平衡定位机构,实现抛光模16平动;有益效果是:光学元件的数控抛光机床采用五轴数控、四轴联动运动方式,利用工件翻转、旋转结构,使抛光位置始终处于水平状态,保证去除函数的高确定性;该机床采用无间隙传动和高精度气动系统控制,保证了抛光过程的运行稳定性,实现了光学元件的数控加工。

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