一种适用于OVD工艺的D4快速气化装置

    公开(公告)号:CN115583791B

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202211275068.1

    申请日:2022-10-18

    IPC分类号: C03B37/014

    摘要: 本发明公开了一种用于OVD工艺的D4快速气化装置,包括蒸发器、内加热组件、外加热器5和D4雾化接头,所述蒸发器为上下开口的筒状结构;所述内加热组件设于蒸发器内,内加热组件的顶部与蒸发器的上端口可拆卸式连接,内加热组件的顶部连接有气化D4出口件;所述外加热器同轴且通长安装于蒸发器的外部;所述蒸发器的下端安装有底盖,所述D4雾化接头与底盖连接,D4雾化接头的出口端穿过底盖后与蒸发器的内部连通。本发明的有益效果为:蒸发器的内外各设有加热器,通过内加热组件及外加热器共同对蒸发腔内的D4加热,增加了换热面积,提高了D4气化速度,缩短了D4气化的时间,可使通入蒸发器的D4完全气化,保证后续工艺顺利进行。

    一种VAD制备光纤预制棒母材的装置及方法

    公开(公告)号:CN108929031B

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN201810838465.2

    申请日:2018-07-27

    IPC分类号: C03B37/018

    摘要: 本发明涉及一种VAD制备光纤预制棒母材的装置及方法,包括用于沉积的反应腔体和伸入反应腔体内腔的旋转升降吊杆,在沉积腔体内腔下方对应待沉积玻璃靶棒下方间隔设置芯层喷灯和包层喷灯,芯层喷灯和包层喷灯分别与芯层原料控制系统和包层原料控制系统相连,沉积腔体外部相对两侧对应芯层沉积下端面分别设有激光发射端与激光接收端,构成芯层激光探测系统,其特征在于所述的芯层原料控制系统与芯层激光探测体统与PLC相连,构成芯层喷灯原料流量与激光探测接收值之间的PID闭环调节系统,形成实时反馈调控。本发明结构简单,控制逻辑清晰,反馈直接、迅速,沉积性能稳定可靠,能使粉棒剖面稳定,芯径和外径均匀,从而提高生产稳定性与产品质量。

    一种用于外部气相沉积法的沉积腔

    公开(公告)号:CN116062984A

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202310139596.2

    申请日:2023-02-17

    IPC分类号: C03B37/018 C03B19/01

    摘要: 本发明涉及一种用于外部气相沉积法的沉积腔,包括有沉积腔体,沉积腔体中安设有上、下旋转夹盘,对应于上、下旋转夹盘安设有上下间隔的喷灯,上、下旋转夹盘或喷灯与上下移动装置相连,沉积腔体的一侧与进风腔相连通,沉积腔的另一侧与抽风腔相连通,其特征在于所述的进风腔位于喷灯背面一侧,进风腔的前面与沉积腔相贯通,进风腔的后面联接上下分隔的子进风腔,每个子进风腔的进风口处设置加热装置,用于对进入气体的加温。本发明能够对送入沉积腔体中不同区域的气体温度进行调控,可使整个沉积腔尤其是粉棒沉积区域的上下温度分布更为均匀和一致,从而有效提高OVD工艺的沉积质量。安设尾气回收管道使得部分尾气回收至气体过滤腔,实现节能节气的效果。

    石英管材加热装置和光纤预制棒制备系统

    公开(公告)号:CN114292020A

    公开(公告)日:2022-04-08

    申请号:CN202111636411.6

    申请日:2021-12-29

    IPC分类号: C03B37/012

    摘要: 本发明公开了一种石英管材加热装置和光纤预制棒制备系统,本石英管材加热装置包括炉体、感应线圈机构、石墨发热体以及石墨保温筒,其中,感应线圈机构、石墨保温筒和石墨发热体均位于炉体内部,感应线圈机构具有位于石墨发热体外部的感应线圈,通过感应线圈通电产生交变磁场使石墨发热体发热,石墨发热体内部设有中空通道以放置石英管材,石墨保温筒位于石墨发热体下方且内设中空通道以与石墨发热体的中空通道连通。本石英管材加热装置具有性能稳定可靠、结构简单以及容易实现的优点。

    一种石英管棒外周面自动清洗装置

    公开(公告)号:CN112474625A

    公开(公告)日:2021-03-12

    申请号:CN202011353473.1

    申请日:2020-11-27

    IPC分类号: B08B9/023

    摘要: 本发明涉及一种石英管棒外周面自动清洗装置,其特征在于包括有立式柜体,立式柜体内设置有立柜腔体,立式柜体的前面安设有柜门,在立式柜体的顶部设置有伸进立柜腔体的吊挂机构和抽风管,在立柜腔体中安设有环形或大半环形的蒸汽喷嘴,所述的蒸汽喷嘴与升降往复装置相联,并通过蒸汽管路与蒸汽压力源相连通,立柜腔体的底部设置有排水口。本发明采用环形或大半环形的蒸汽喷嘴进行石英管棒外周表面清洗,清洗均匀,不存在清洗死角;高温、高压、高速的饱和蒸汽可以加速溶解表面油污、冲刷表面杂质,表面清洗彻底,清洗洁净度高;清洗过程无需人工操作,自动化程度高,使用操作方便,清洗效率高。本发明清洗用水少,蒸发干燥快,节能环保。

    一种OVD制造光纤预制棒的装置及方法

    公开(公告)号:CN109020186A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201810992598.5

    申请日:2018-08-29

    IPC分类号: C03B37/018

    摘要: 本发明涉及一种OVD制造光纤预制棒的装置及方法,包括有沉积腔体,沉积腔体的顶部和下部对应安设上、下同步旋转卡盘,用于夹持待外喷的芯棒,沉积腔体一侧对应上、下同步旋转卡盘竖直设置等距间隔的喷灯组,喷灯组与上下移动滑座相连,在沉积腔体的另一侧对应喷灯组设有抽风口,其特征在于腔体外侧安装有激光测径仪,激光测径仪的输出端与PLC相连,PLC的控制端与卡盘旋转控制系统相连,构成粉棒外径与旋转卡盘转速的实时反馈调控,使得整个沉积过程中粉棒沉积表面与火焰中心落点的交点处线速度保持恒定。本发明能提高粉棒的整体均匀性与收集率,提高了OVD粉棒制造效率和质量;反馈装置简单可靠,易于实现,稳定性强,适合规模化生产。

    一种VAD制备光纤预制棒母材的装置及方法

    公开(公告)号:CN108929031A

    公开(公告)日:2018-12-04

    申请号:CN201810838465.2

    申请日:2018-07-27

    IPC分类号: C03B37/018

    摘要: 本发明涉及一种VAD制备光纤预制棒母材的装置及方法,包括用于沉积的反应腔体和伸入反应腔体内腔的旋转升降吊杆,在沉积腔体内腔下方对应待沉积玻璃靶棒下方间隔设置芯层喷灯和包层喷灯,芯层喷灯和包层喷灯分别与芯层原料控制系统和包层原料控制系统相连,沉积腔体外部相对两侧对应芯层沉积下端面分别设有激光发射端与激光接收端,构成芯层激光探测系统,其特征在于所述的芯层原料控制系统与芯层激光探测体统与PLC相连,构成芯层喷灯原料流量与激光探测接收值之间的PID闭环调节系统,形成实时反馈调控。本发明结构简单,控制逻辑清晰,反馈直接、迅速,沉积性能稳定可靠,能使粉棒剖面稳定,芯径和外径均匀,从而提高生产稳定性与产品质量。

    石英管材加热装置和光纤预制棒制备系统

    公开(公告)号:CN114292020B

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202111636411.6

    申请日:2021-12-29

    IPC分类号: C03B37/012

    摘要: 本发明公开了一种石英管材加热装置和光纤预制棒制备系统,本石英管材加热装置包括炉体、感应线圈机构、石墨发热体以及石墨保温筒,其中,感应线圈机构、石墨保温筒和石墨发热体均位于炉体内部,感应线圈机构具有位于石墨发热体外部的感应线圈,通过感应线圈通电产生交变磁场使石墨发热体发热,石墨发热体内部设有中空通道以放置石英管材,石墨保温筒位于石墨发热体下方且内设中空通道以与石墨发热体的中空通道连通。本石英管材加热装置具有性能稳定可靠、结构简单以及容易实现的优点。

    一种用于外部气相沉积法的沉积腔

    公开(公告)号:CN116062984B

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202310139596.2

    申请日:2023-02-17

    IPC分类号: C03B37/018 C03B19/01

    摘要: 本发明涉及一种用于外部气相沉积法的沉积腔,包括有沉积腔体,沉积腔体中安设有上、下旋转夹盘,对应于上、下旋转夹盘安设有上下间隔的喷灯,上、下旋转夹盘或喷灯与上下移动装置相连,沉积腔体的一侧与进风腔相连通,沉积腔的另一侧与抽风腔相连通,其特征在于所述的进风腔位于喷灯背面一侧,进风腔的前面与沉积腔相贯通,进风腔的后面联接上下分隔的子进风腔,每个子进风腔的进风口处设置加热装置,用于对进入气体的加温。本发明能够对送入沉积腔体中不同区域的气体温度进行调控,可使整个沉积腔尤其是粉棒沉积区域的上下温度分布更为均匀和一致,从而有效提高OVD工艺的沉积质量。安设尾气回收管道使得部分尾气回收至气体过滤腔,实现节能节气的效果。

    一种适用于OVD工艺的D4快速气化装置

    公开(公告)号:CN115583791A

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN202211275068.1

    申请日:2022-10-18

    IPC分类号: C03B37/014

    摘要: 本发明公开了一种用于OVD工艺的D4快速气化装置,包括蒸发器、内加热组件、外加热组件和D4雾化接头,所述蒸发器为上下开口的筒状结构;所述内加热组件设于蒸发器内,内加热组件的顶部与蒸发器的上端口可拆卸式连接,内加热组件的顶部连接有气化D4出口件;所述外加热器同轴且通长安装于蒸发器的外部;所述蒸发器的下端安装有底盖,所述D4雾化接头与底盖连接,D4雾化接头的出口端穿过底盖后与蒸发器的内部连通。本发明的有益效果为:蒸发器的内外各设有加热器,通过内加热组件及外加热器共同对蒸发腔内的D4加热,增加了换热面积,提高了D4气化速度,缩短了D4气化的时间,可使通入蒸发器的D4完全气化,保证后续工艺顺利进行。