一种用于阀门组件的位移反馈装置及优化方法

    公开(公告)号:CN118836299A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410847545.X

    申请日:2024-06-27

    摘要: 本发明公开了一种用于阀门组件的位移反馈装置及优化方法,属于位移测量设备领域。本发明提供的非接触式位置反馈装置中,内部的磁通源被设计为产生连续的三维磁场,该三维磁场完全包围磁通源和传感器,且在传感器的移动行程上形成线性渐变的磁通密度。由此,在实际应用时,通过将磁通源安装在阀杆上随阀杆同步移动,而磁传感器则固定在阀门定位器上,即可通过磁传感器上产生的与周围磁场成正比的电信号,来反映磁传感器与磁通源的相对位置。本发明可提高阀门组件中非接触式位置反馈装置的线性度,对于提升调节阀的自动化控制水平,确保工业生产的稳定运行具有重要意义。

    一种磁通源及包含该磁通源的非接触位移反馈装置

    公开(公告)号:CN118448123A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202410541945.8

    申请日:2024-04-30

    IPC分类号: H01F7/02 G01B7/02

    摘要: 本发明公开了一种磁通源及包含该磁通源的非接触位移反馈装置,属于位移传感器领域。该磁通源采用镜像对称、直线排布、充磁方向沿镜像对称面相反的永磁体阵列,通过控制永磁体阵列从镜像对称面开始朝向两个阵列端部方向上排列的永磁体形状渐变,从而能够在保持所有永磁体的充磁强度相同的情况下使所有永磁体在壳体之外形成磁通密度线性变化的直线行程段。相对于需要调整充磁强度来保证磁通密度线性变化的磁通源方案,本发明可以无需调整充磁强度,即可得到磁通密度线性变化的直线行程段,大大提高了磁通源加工的便捷性和质量可控性。另外,在本发明的实施例中,还提供了多种优化设计的永磁体阵列形式,这些优化方案均具有较好地磁通密度线性度,能够满足非接触式位移反馈的需求。