公开(公告)号：CN102667958A

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：CN201180004860.7

申请日：2011-04-26

申请人： 阿利发NP有限公司

发明人： R·加森 ,  B·蔡勒

IPC分类号： G21F9/00 ,  G21F9/28

CPC分类号： G21F9/004 ,  B08B3/08 ,  G21F9/28

摘要： 本发明涉及采用多次净化循环核电厂中的金属部件或系统的具有氧化物层的表面化学清除放射性污染的方法，其中所述循环各自包括其中将氧化物层用含氧化剂的水溶液处理氧化步骤和紧接着的其中将氧化物层用酸的水溶液的清除放射性污染步骤。进行至少一个在酸性溶液中氧化步骤且进行至少一个在碱性溶液中的氧化步骤。

公开(公告)号：CN102209992A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201080003157.X

申请日：2010-02-17

申请人： 阿利发NP有限公司

发明人： R·加森 ,  L·塞姆派尔贝尔达 ,  W·施韦格霍弗 ,  B·蔡勒

IPC分类号： G21F9/00 ,  G21F9/28 ,  G21F9/30

CPC分类号： G21F9/001 ,  G21F9/004 ,  G21F9/28 ,  G21F9/30

摘要： 本发明涉及用于对金属零件表面进行化学去污的方法，在所述方法的第一处理步骤中，用包含有机去污酸的第一水性处理溶液将在零件上通过零件材料的腐蚀产生的氧化物层从所述零件表面脱除，并在随后的第二处理步骤中用一种水溶液处理至少部分清除了氧化物层的表面，所述水溶液包含用于去除附着在表面的颗粒的有效组分，其中所述有效组分由至少一种选自磺酸、膦酸、羧酸和这些酸的盐的阴离子型表面活性剂组成。

公开(公告)号：CN102405500A

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：CN201080017041.1

申请日：2010-12-01

申请人： 阿利发NP有限公司

发明人： R·加森 ,  B·蔡勒

IPC分类号： G21F9/00 ,  G21F9/12 ,  G21F9/28 ,  G21F9/30 ,  C22B60/02

CPC分类号： G21F9/004 ,  G21F9/12 ,  G21F9/28 ,  G21F9/30

摘要： 本发明涉及用于压水式反应堆一次回路金属组件的具有氧化物层的表面的化学去污染方法，其被分为两个工艺阶段并进一步设计如下：在第一工艺阶段，进行至少一个处理循环，其包括一个氧化步骤、一个还原步骤和一个随后的第一去污染步骤，其中在氧化步骤中，用包含氧化剂的水性溶液处理所述组件，这使氧化物层中包含的三价铬转化为六价铬；在还原步骤中，用水性溶液处理所述组件，所述水性溶液包含用于还原来自氧化步骤的剩余氧化剂的还原剂；在第一去污染步骤中，用只包含或主要包含至少一种去污染酸的水性溶液处理所述组件，所述去污染酸不与溶液中包含的金属离子，特别是二价金属离子形成难溶的沉淀物；和引导所述溶液经过离子交换器以除去溶液中包含的、来自组件氧化物层和/或基底金属的金属离子，在第二工艺阶段中，进行至少一个处理循环，其包括第二去污染步骤，其中用只包含或主要包含草酸作为去污染酸的水性溶液处理所述组件。