公开(公告)号：CN102209992A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201080003157.X

申请日：2010-02-17

申请人： 阿利发NP有限公司

发明人： R·加森 ,  L·塞姆派尔贝尔达 ,  W·施韦格霍弗 ,  B·蔡勒

IPC分类号： G21F9/00 ,  G21F9/28 ,  G21F9/30

CPC分类号： G21F9/001 ,  G21F9/004 ,  G21F9/28 ,  G21F9/30

摘要： 本发明涉及用于对金属零件表面进行化学去污的方法，在所述方法的第一处理步骤中，用包含有机去污酸的第一水性处理溶液将在零件上通过零件材料的腐蚀产生的氧化物层从所述零件表面脱除，并在随后的第二处理步骤中用一种水溶液处理至少部分清除了氧化物层的表面，所述水溶液包含用于去除附着在表面的颗粒的有效组分，其中所述有效组分由至少一种选自磺酸、膦酸、羧酸和这些酸的盐的阴离子型表面活性剂组成。