公开(公告)号：CN110168146B

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN201780082322.7

申请日：2017-12-26

申请人： 阿文尼公司

发明人： 洛里安娜·勒里基尤克斯 ,  文森特·梅费里克 ,  米卡卢·蒂亚姆

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/38 ,  H01L21/768

摘要： 本发明涉及用于将铜沉积到导电表面上的电解液组合物。该组合物包含2,2'‑联吡啶、咪唑、四乙铵和铜络合剂的组合。这种电解液使得可以制造不具有任何空隙的小尺寸的铜互连结构，并且具有与工业约束相容的填充速度。本发明还涉及用于用铜对空腔进行填充的方法以及根据这种方法获得的半导体器件。

公开(公告)号：CN113383115B

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202080012535.4

申请日：2020-02-06

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  路易斯·凯拉德 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  多米尼克·祖尔

IPC分类号： C25D3/56 ,  C25D5/34 ,  C25D5/50 ,  C25D7/12 ,  H01L21/768

摘要： 钴或铜合金的电沉积以及在微电子学中的用途。本发明涉及制造钴或铜互连的方法，以及能够实施所述方法的电解液。pH小于4.0的电解液包含钴离子或铜离子、氯离子、锰离子或锌离子以及至多两种低分子量的有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸。

公开(公告)号：CN111771016B

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN201980015252.2

申请日：2019-03-15

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  多米尼克·祖尔 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  路易斯·凯拉德

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/12 ,  C25D5/50 ,  H01L21/288 ,  H01L21/768

摘要： 本发明涉及一种用于制造钴互连的方法和能够实现该方法的电解液。电解液的pH值低于4.0并包含钴离子、氯离子和至多两种低分子量有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸或pKa值范围为1.8‑3.5的化合物。

公开(公告)号：CN110168146A

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201780082322.7

申请日：2017-12-26

申请人： 阿文尼公司

发明人： 洛里安娜·勒里基尤克斯 ,  文森特·梅费里克 ,  米卡卢·蒂亚姆

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/38 ,  H01L21/768

摘要： 本发明涉及用于将铜沉积到导电表面上的电解液组合物。该组合物包含2,2'-联吡啶、咪唑、四乙铵和铜络合剂的组合。这种电解液使得可以制造不具有任何空隙的小尺寸的铜互连结构，并且具有与工业约束相容的填充速度。本发明还涉及用于用铜对空腔进行填充的方法以及根据这种方法获得的半导体器件。

公开(公告)号：CN113383115A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202080012535.4

申请日：2020-02-06

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  路易斯·凯拉德 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  多米尼克·祖尔

IPC分类号： C25D3/56 ,  C25D5/34 ,  C25D5/50 ,  C25D7/12 ,  H01L21/768

摘要： 钴或铜合金的电沉积以及在微电子学中的用途。本发明涉及制造钴或铜互连的方法，以及能够实施所述方法的电解液。pH小于4.0的电解液包含钴离子或铜离子、氯离子、锰离子或锌离子以及至多两种低分子量的有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸。

公开(公告)号：CN111771016A

公开(公告)日：2020-10-13

申请号：CN201980015252.2

申请日：2019-03-15

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  多米尼克·祖尔 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  路易斯·凯拉德

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/12 ,  C25D5/50 ,  H01L21/288 ,  H01L21/768

摘要： 本发明涉及一种用于制造钴互连的方法和能够实现该方法的电解液。电解液的pH值低于4.0并包含钴离子、氯离子和至多两种低分子量有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸或pKa值范围为1.8‑3.5的化合物。