公开(公告)号：CN113383115B

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202080012535.4

申请日：2020-02-06

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  路易斯·凯拉德 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  多米尼克·祖尔

IPC分类号： C25D3/56 ,  C25D5/34 ,  C25D5/50 ,  C25D7/12 ,  H01L21/768

摘要： 钴或铜合金的电沉积以及在微电子学中的用途。本发明涉及制造钴或铜互连的方法，以及能够实施所述方法的电解液。pH小于4.0的电解液包含钴离子或铜离子、氯离子、锰离子或锌离子以及至多两种低分子量的有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸。

公开(公告)号：CN111771016B

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN201980015252.2

申请日：2019-03-15

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  多米尼克·祖尔 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  路易斯·凯拉德

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/12 ,  C25D5/50 ,  H01L21/288 ,  H01L21/768

摘要： 本发明涉及一种用于制造钴互连的方法和能够实现该方法的电解液。电解液的pH值低于4.0并包含钴离子、氯离子和至多两种低分子量有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸或pKa值范围为1.8‑3.5的化合物。

公开(公告)号：CN105899715B

公开(公告)日：2019-05-31

申请号：CN201480072944.8

申请日：2014-09-10

申请人： 阿文尼公司

发明人： 洛里安娜·勒里基尤克斯 ,  保罗·布隆多 ,  多米尼克·祖尔

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/38 ,  H01L21/00 ,  H05K3/00

摘要： 本发明涉及用于将铜沉积在金属衬底上的电解液组合物。该组合物含有两种芳香胺和电化学惰性阳离子的组合。这种电解液使得可以增加铜成核密度。该电解液还使得能够自下而上地填充于具有非常小的开口尺寸、一般小于40nm的沟槽中。

公开(公告)号：CN105899715A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201480072944.8

申请日：2014-09-10

申请人： 阿文尼公司

发明人： 洛里安娜·勒里基尤克斯 ,  保罗·布隆多 ,  多米尼克·祖尔

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/38 ,  H01L21/00 ,  H05K3/00

摘要： 本发明涉及用于将铜沉积在金属衬底上的电解液组合物。该组合物含有两种芳香胺和电化学惰性阳离子的组合。这种电解液使得可以增加铜成核密度。该电解液还使得能够自下而上地填充于具有非常小的开口尺寸、一般小于40nm的沟槽中。

公开(公告)号：CN113383115A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202080012535.4

申请日：2020-02-06

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  路易斯·凯拉德 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  多米尼克·祖尔

IPC分类号： C25D3/56 ,  C25D5/34 ,  C25D5/50 ,  C25D7/12 ,  H01L21/768

摘要： 钴或铜合金的电沉积以及在微电子学中的用途。本发明涉及制造钴或铜互连的方法，以及能够实施所述方法的电解液。pH小于4.0的电解液包含钴离子或铜离子、氯离子、锰离子或锌离子以及至多两种低分子量的有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸。

公开(公告)号：CN111771016A

公开(公告)日：2020-10-13

申请号：CN201980015252.2

申请日：2019-03-15

申请人： 阿文尼公司

发明人： 文森特·梅费里克 ,  多米尼克·祖尔 ,  米卡卢·蒂亚姆 ,  路易斯·凯拉德

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D3/12 ,  C25D5/50 ,  H01L21/288 ,  H01L21/768

摘要： 本发明涉及一种用于制造钴互连的方法和能够实现该方法的电解液。电解液的pH值低于4.0并包含钴离子、氯离子和至多两种低分子量有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸或pKa值范围为1.8‑3.5的化合物。