卷至卷膜处理系统
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104692169B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201410015904.1

    申请日:2014-01-14

    IPC分类号: B65H19/24 B65H23/14

    摘要: 本申请公开了一种卷至卷膜处理系统。该卷至卷膜处理系统包括:退绕装置,该退绕装置用于退绕并供应对象膜;处理施加装置,该处理施加装置用于向从所述退绕装置供应的所述对象膜施加处理;以及重绕装置,该重绕装置用于重绕由所述处理施加装置处理的所述对象膜,其中待被处理的所述对象膜在被保持在缓冲状态时被供应,并且已处理的对象膜在被保持在所述缓冲状态时被卷绕,从而防止所述对象膜在所述退绕装置和所述重绕装置之间被损坏。

    用于传送基板的装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106206387A

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201510244173.2

    申请日:2015-05-14

    发明人: 李允洪 李柱明

    IPC分类号: H01L21/677

    摘要: 本发明公开了一种用于传送基板的装置,并且更具体地涉及这样一种用于传送基板的装置,其中基板在被传送以经历清洁工艺或蚀刻工艺时是倾斜的,从而导致工艺液体在一个方向上流动并由此提高清洁工艺或蚀刻工艺的效率。