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发明公开
用于防止胎面部的渗出物的电子线照射装置无效

公开(公告)号：CN101844382A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200910249891.3

申请日：2009-11-30

申请人： 韩国轮胎株式会社

发明人： 鞠正镐 , 金武泳

IPC分类号： B29C35/08 , B29L30/00

摘要： 本发明提供一种用于防止胎坯的胎面部的渗出物(Spew)的电子线照射装置，在轮胎硫化作业时为了防止胎坯的胎面部的渗出物，而在硫化工序前向胎坯的胎面部照射电子线以进行局部硫化。