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公开(公告)号：CN104105662A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201280060937.7
申请日：2012-10-09
Applicant: 高级技术材料公司
CPC classification number: C01B35/061 , B01J3/03 , B01J7/00 , B01J15/00 , B01J19/0073 , B01J19/129 , B01J2219/00094 , B01J2219/00148 , B01J2219/0254 , B01J2219/0272 , B01J2219/0277 , B01J2219/0886 , Y02P20/149
Abstract: 提供一种用于由固体反应物材料制备化合物或中间体的反应系统和方法。在一个特定方面中，提供用于制备用作用于基板中硼的离子注入的前体的含硼前体化合物的反应系统和方法。在另一个特定方面中，提供用于制造硼前体，如B2F4的反应器系统和方法。
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公开(公告)号：CN1288067C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN02805031.2
申请日：2002-02-14
Applicant: 高级技术材料公司
Inventor： 詹姆斯·V·麦克马努斯 , 迈克尔·J·伍德金斯基 , 爱德华·E·琼斯
CPC classification number: G01L19/12 , F17C2205/0338 , F17C2205/0391 , F17C2250/0469 , G01L19/083
Abstract: 流体容器系统(10)包括容器(12)以持留流体，所述的流体在系统使用和工作中从容器(12)中排放。包括应变响应传感器(38)的压力监视组件(36)设置在容器(12)的外表面上，以测定从容器排放流体时发生的容器壁表面上的动态应变，并响应地输出表示压力的响应(40)。该构造可特别用于流体贮存和分配容器的应用场合，所述的容器包括设置在其中的压力调节器组件，并持留液化气或压缩气，例如用于半导体制造操作中。
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公开(公告)号：CN1491185A
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN02805031.2
申请日：2002-02-14
Applicant: 高级技术材料公司
Inventor： 詹姆斯·V·麦克马努斯 , 迈克尔·J·伍德金斯基 , 爱德华·E·琼斯
IPC: B67D5/00
CPC classification number: G01L19/12 , F17C2205/0338 , F17C2205/0391 , F17C2250/0469 , G01L19/083
Abstract: 流体容器系统(10)包括容器(12)以持留流体，所述的流体在系统使用和工作中从容器(12)中排放。包括应变响应传感器(38)的压力监视组件(36)设置在容器(12)的外表面上，以测定从容器排放流体时发生的容器壁表面上的动态应变，并响应地输出表示压力的响应(40)。该构造可特别用于流体贮存和分配容器的应用场合，所述的所述的容器包括设置在其中的压力调节器组件，并持留液化气或压缩气，例如用于半导体制造操作中。
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