公开(公告)号：CN1957444B

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200580016637.9

申请日：2005-03-11

申请人： 高通股份有限公司

发明人： 艾伦·格伦·斯特里特

IPC分类号： H01L21/06

CPC分类号： H01L21/76892

摘要： 本发明揭示一种聚焦离子束(FIB)研磨终点检测系统，其使用一恒流电源来供能一所要修改的集成电路(IC)。在研磨过程中使所述FIB在一所要触及的导电迹线上方循环。在所述研磨过程中监测所述IC的输入功率或电压。在所述FIB到达所述导电迹线时便可检测到终点。当FIB到达所述导电迹线的水平面时，FIB可向所述导电迹线上注入电荷。一耦合至所述导电迹线的有源装置可放大由所述FIB注入的所述电荷。所述有源装置可用作一电流放大器。IC电流的变化可引起装置输入电压的放大的变化。通过监测来自所述恒流电源的输入电压的变化便可检测到所述终点。

公开(公告)号：CN1957444A

公开(公告)日：2007-05-02

申请号：CN200580016637.9

申请日：2005-03-11

申请人： 高通股份有限公司

发明人： 艾伦·格伦·斯特里特

IPC分类号： H01L21/06

CPC分类号： H01L21/76892

摘要： 本发明揭示一种聚焦离子束(FIB)研磨终点检测系统，其使用一恒流电源来供能一所要修改的集成电路(IC)。在研磨过程中使所述FIB在一所要触及的导电迹线上方循环。在所述研磨过程中监测所述IC的输入功率或电压。在所述FIB到达所述导电迹线时便可检测到终点。当FIB到达所述导电迹线的水平面时，FIB可向所述导电迹线上注入电荷。一耦合至所述导电迹线的有源装置可放大由所述FIB注入的所述电荷。所述有源装置可用作一电流放大器。IC电流的变化可引起装置输入电压的放大的变化。通过监测来自所述恒流电源的输入电压的变化便可检测到所述终点。