一种植物抗逆相关蛋白PvNAC52及其编码基因和应用

    公开(公告)号:CN114736279A

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202210501900.9

    申请日:2022-05-10

    摘要: 本发明公开了一种植物抗逆相关蛋白PvNAC52及其编码基因与应用。本发明提供的蛋白PvNAC52,其氨基酸序列如SEQIDNO:1所示。实验证明,在拟南芥中过表达PvNAC52基因可以提高拟南芥抗逆性,抗逆性提高表现为:在盐/碱/旱/渗透胁迫下,转基因植物的存活率增加、根长增加、鲜重增加、失水率降低、细胞膜损伤降低、丙二醛含量降低、相对电导率降低、H2O2含量降低、超氧阴离子降低、ROS含量降低、过氧化氢酶活性增加、SOD酶活性增加、过氧化物酶活性增加和脯氨酸含量增加。因此,蛋白PvNAC52及其编码基因可以调控植物抗逆性,在培育抗逆性增强的植物中具有重要的理论意义和实用价值。

    一种大垄平台栽培芸豆的方法

    公开(公告)号:CN106105723A

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201610565572.3

    申请日:2016-07-18

    IPC分类号: A01G1/00

    CPC分类号: A01G2/00

    摘要: 本发明涉及一种大垄平台栽培芸豆的方法,属于芸豆栽培技术领域。秋整地起垄,在所述垄两侧设垄沟,所述垄设垄台,分别对垄沟和垄台中间部位进行深松,以起垄前的土地表面为基准,所述垄沟的深松深度为30~40cm,垄台中间的深松深度为15~30cm;整地时,将基肥施于垄台中间;将种肥施于播种位置下方;在垄台上进行芸豆的播种,所述播种共3行,形成3条苗带,所述播种的行间距为25~30cm,所述芸豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产芸豆品种;将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧,所述追肥施于垄台下方。本发明结合深松、播种和施肥的栽培方法,通透性好、抗逆性强,改善了芸豆群体光合作用生产效率和肥料利用率,可实现芸豆丰产优质高效生产。

    一种大垄平台栽培芸豆的方法

    公开(公告)号:CN106105723B

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:CN201610565572.3

    申请日:2016-07-18

    IPC分类号: A01G22/40

    摘要: 本发明涉及一种大垄平台栽培芸豆的方法,属于芸豆栽培技术领域。秋整地起垄,在所述垄两侧设垄沟,所述垄设垄台,分别对垄沟和垄台中间部位进行深松,以起垄前的土地表面为基准,所述垄沟的深松深度为30~40cm,垄台中间的深松深度为15~30cm;整地时,将基肥施于垄台中间;将种肥施于播种位置下方;在垄台上进行芸豆的播种,所述播种共3行,形成3条苗带,所述播种的行间距为25~30cm,所述芸豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产芸豆品种;将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧,所述追肥施于垄台下方。本发明结合深松、播种和施肥的栽培方法,通透性好、抗逆性强,改善了芸豆群体光合作用生产效率和肥料利用率,可实现芸豆丰产优质高效生产。

    水稻双侧双深分类施肥垄上机插双行高效栽培方法

    公开(公告)号:CN105052645B

    公开(公告)日:2018-05-15

    申请号:CN201510562716.5

    申请日:2015-09-08

    IPC分类号: A01G22/22

    摘要: 本发明属于水稻栽培技术领域,具体涉及一种水稻双侧双深分类施肥垄上机插双行高效栽培方法。通过施肥旱起垄机械进行旱起垄;旱起垄的垄底7宽度为50至60厘米,镇压后的垄高6为11至13厘米,镇压后的垄面4宽度为30至40厘米;苗带2的双侧分布有深肥带3及浅肥带1,深肥带3距垄面4的高度为6至8厘米,深肥带3距苗带2的宽度为8至15厘米,浅肥带1距垄面4的高度为3至5厘米,浅肥带1距苗带2的宽度为3厘米;旱起垄后进行泡田,泡田后进行垄上机插双行,机插后双行苗带2之间的距离为16至30厘米;所述的深肥带3施有缓效肥,浅肥带1施有速效肥。本发明节约肥料,培肥土壤,抢抓农时,高效增产,省时省力,降低成本。

    水稻双侧双深分类施肥垄上机插双行高效栽培方法

    公开(公告)号:CN105052645A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201510562716.5

    申请日:2015-09-08

    IPC分类号: A01G16/00

    CPC分类号: A01G22/22

    摘要: 本发明属于水稻栽培技术领域,具体涉及一种水稻双侧双深分类施肥垄上机插双行高效栽培方法。通过施肥旱起垄机械进行旱起垄;旱起垄的垄底7宽度为50至60厘米,镇压后的垄高6为11至13厘米,镇压后的垄面4宽度为30至40厘米;苗带2的双侧分布有深肥带3及浅肥带1,深肥带3距垄面4的高度为6至8厘米,深肥带3距苗带2的宽度为8至15厘米,浅肥带1距垄面4的高度为3至5厘米,浅肥带1距苗带2的宽度为3厘米;旱起垄后进行泡田,泡田后进行垄上机插双行,机插后双行苗带2之间的距离为16至30厘米;所述的深肥带3施有缓效肥,浅肥带1施有速效肥。本发明节约肥料,培肥土壤,抢抓农时,高效增产,省时省力,降低成本。

    水田苏打型盐碱土壤碳基改良剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN102876329A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210402225.0

    申请日:2012-10-22

    摘要: 一种水田苏打型盐碱土壤碳基改良剂,其特征在于主要成分包括碳基载体,碳基载体分别混入硫酸锌、石膏、硫酸锰、硼酸钙;所述碳基载体由粉碎玉米轴和浓度96%左右工业硫酸按质量比5:2至6:2混和配制;其制备由下述步骤制成:a、将粉碎玉米轴置于搅拌机内,注入浓度96%左右工业硫酸,两者质量比=5:2~6:2,边加边搅拌,至玉米轴充分碳化无烟冒出停止搅拌,制成碳基载体;b、分别向碳基载体中加入质量比为50:1至50:3的纯量硫酸锌、1:1的纯量石膏、25:1的纯量硫酸锰、25:1的纯量硼酸钙;本改良剂集化学、物理改良于一体,改善土壤物理性质,代换土壤中的交换性Na+,降低土壤pH值,补充钙、锰、锌、硼,提高产量。

    水稻蓄液调温隔离基质育秧方法

    公开(公告)号:CN102870638A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210402283.3

    申请日:2012-10-22

    IPC分类号: A01G16/00

    摘要: 一种水稻蓄液调温隔离基质育秧方法,其特征在于包括以下步骤:a、作床;b、摆盘;c、灌底层液;d、铺育苗基质;e、浇营养液;f、播种及覆盖,刮平后盖塑料薄膜;g、补水、补营养液;h、棚内温度管理;i、3叶1心~3.5叶或4叶1心~4.5叶移栽;采用本发明育秧方法在基质下有10-20mm的液层作为隔离层,起到了很好的保水减少水分逆境的作用,使根系总是处于饱和水汽下不至于过旱、贴近秧盘的根层不至于经常处在水中,利于壮根;基质层水分变幅小,通透性好,利于根系进行有氧呼吸以增强吸收能力;液层能够阻止早春由地下而上的寒气,即起到保温层的作用,根下温度较直接在地膜上应有所提高,十分有利于培育壮秧。

    一种植物抗逆相关蛋白PvNAC52及其编码基因和应用

    公开(公告)号:CN114736279B

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202210501900.9

    申请日:2022-05-10

    摘要: 本发明公开了一种植物抗逆相关蛋白PvNAC52及其编码基因与应用。本发明提供的蛋白PvNAC52,其氨基酸序列如SEQIDNO:1所示。实验证明,在拟南芥中过表达PvNAC52基因可以提高拟南芥抗逆性,抗逆性提高表现为:在盐/碱/旱/渗透胁迫下,转基因植物的存活率增加、根长增加、鲜重增加、失水率降低、细胞膜损伤降低、丙二醛含量降低、相对电导率降低、H2O2含量降低、超氧阴离子降低、ROS含量降低、过氧化氢酶活性增加、SOD酶活性增加、过氧化物酶活性增加和脯氨酸含量增加。因此,蛋白PvNAC52及其编码基因可以调控植物抗逆性,在培育抗逆性增强的植物中具有重要的理论意义和实用价值。

    一种水稻点状施肥的方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109287229A

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201811267386.7

    申请日:2018-10-29

    IPC分类号: A01C21/00

    摘要: 一种水稻点状施肥的方法。本发明涉及植物营养技术领域,具体涉及一种水稻点状施肥的方法。本发明是为了解决现有肥料利用率低的缺陷的问题。方法:一、水田插秧前做好耕整地准备;二、在苗带一侧沿水平面垂直苗带方向2cm~4cm、深度距泥面3.5cm~4.5cm处采用点状施肥方式施用基蘖肥,施肥过程与水稻插秧作业过程同步进行;三、水稻倒4叶长出一半至全部展开施入调节肥;四、水稻倒二叶长出一半时施入穗肥。本发明用于水稻施肥。