公开(公告)号：CN115280240A

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN202180019871.6

申请日：2021-03-08

申请人： 默克专利有限公司

发明人： D·胡生 ,  王常胜 ,  K·欧特柯 ,  G·莫尔斯 ,  B·杰佛瑞 ,  R·R·戴蒙 ,  工藤隆范

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/075

摘要： 本发明涉及一种在基材上方制造偏析层的方法。本发明还涉及制造光致抗蚀剂层、光致抗蚀图案、经加工的基材和器件的方法。

公开(公告)号：CN118401896A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202280082281.2

申请日：2022-12-09

申请人： 默克专利有限公司

发明人： 野岛由雄 ,  关藤高志 ,  仁川裕 ,  工藤隆范

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11

摘要： 一种包含具有特定结构的含烃化合物(A)和溶剂(B)的厚膜形成用组合物：其中，溶剂(B)含有有机溶剂(B1)和介电常数为20.0～90.0的有机溶剂(B2)；并且由厚膜形成用组合物形成的膜的厚度为0.5～10μm。

公开(公告)号：CN102736418B

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201210229074.3

申请日：2005-10-25

申请人： 默克专利有限公司

发明人： 工藤隆范 ,  M·帕德曼纳班 ,  R·R·达莫尔

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/40

摘要： 本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含氨基的聚合物。本发明还涉及微电子元件的制造方法，包括：提供具有光致抗蚀剂图案的衬底，用新型涂料涂覆所述光致抗蚀剂图案，让与所述光致抗蚀剂图案接触的涂料的一部分反应，和将没有与移除溶液反应的涂料的一部分除去。

公开(公告)号：CN103597043B

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201280027792.0

申请日：2012-06-05

申请人： 默克专利有限公司

发明人： 工藤隆范 ,  A·D·迪奥塞斯 ,  E·W·恩格 ,  S·查克拉帕尼 ,  M·帕德马纳班

IPC分类号： C09D5/00

CPC分类号： C09D5/006 ,  G03F7/091

摘要： 本发明涉及抗反射涂料组合物，包含交联剂、含有至少一个发色团基团和至少一个羟基和/或羧基基团的聚合物、和添加剂，进一步地其中该添加剂具有结构(1)并包含至少一个亚芳基‑羟基部分，其中Y选自羧酸根阴离子或磺酸根阴离子，R1、R2和R3独立地选自未取代的C1‑C8烷基、取代的C1‑C8烷基、芳基和亚芳基‑羟基；X1、X2和X3独立地选自直接价键和C1‑C8亚烷基，且n=1、2或3。本发明进一步涉及使用该组合物的方法。