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公开(公告)号：CN104797961B
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201380059865.9
申请日：2013-11-19
申请人： 3M创新有限公司
IPC分类号： G02B5/02 , F21V8/00 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/021 , B29C59/026 , B29L2011/00 , C25D3/04 , C25D3/38 , C25D5/12 , C25D5/16 , G02B5/0221 , G02B5/0268 , G02B5/0278 , G02B6/0051 , G02F1/133606
摘要： 本发明提供了通过由结构化表面工具微复制而制备的光学扩散膜。所述工具使用两部分电镀工艺进行制备，其中第一电镀工序形成具有第一主表面的第一金属层，并且第二电镀工序在所述第一金属层上形成第二金属层，所述第二金属层具有第二主表面，所述第二主表面具有比所述第一主表面的平均粗糙度更小的平均粗糙度。所述第二主表面可用作所述工具的所述结构化表面。随后可在光学膜的主表面中制备这个表面的复制品以提供光扩散特性。所述结构化表面和/或其组成结构可以各种参数诸如光学雾度、光学透明度、所述形貌沿正交平面内方向的傅立叶功率谱、每单位面积的脊长度、等效圆直径(ECD)和/或纵横比来表征。
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公开(公告)号：CN104797961A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380059865.9
申请日：2013-11-19
申请人： 3M创新有限公司
IPC分类号： G02B5/02 , F21V8/00 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/021 , B29C59/026 , B29L2011/00 , C25D3/04 , C25D3/38 , C25D5/12 , C25D5/16 , G02B5/0221 , G02B5/0268 , G02B5/0278 , G02B6/0051 , G02F1/133606
摘要： 本发明提供了通过由结构化表面工具微复制而制备的光学扩散膜。所述工具使用两部分电镀工艺进行制备，其中第一电镀工序形成具有第一主表面的第一金属层，并且第二电镀工序在所述第一金属层上形成第二金属层，所述第二金属层具有第二主表面，所述第二主表面具有比所述第一主表面的平均粗糙度更小的平均粗糙度。所述第二主表面可用作所述工具的所述结构化表面。随后可在光学膜的主表面中制备这个表面的复制品以提供光扩散特性。所述结构化表面和/或其组成结构可以各种参数诸如光学雾度、光学透明度、所述形貌沿正交平面内方向的傅立叶功率谱、每单位面积的脊长度、等效圆直径(ECD)和/或纵横比来表征。
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公开(公告)号：CN108051879B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201810017975.3
申请日：2013-11-19
申请人： 3M创新有限公司
IPC分类号： G02B5/02
摘要： 本发明提供了光学膜。光学膜包含：结构化主表面，所述结构化主表面包含密集堆积结构，所述密集堆积结构被布置成使得在相邻结构之间形成脊，所述密集堆积结构沿两个正交平面内方向的尺寸受到限制，其中所述结构化主表面具有通过与相应的第一正交平面内方向和第二正交平面内方向相关联的第一傅立叶功率谱和第二傅立叶功率谱来表征的形貌，并且其中所述结构化主表面通过平面图中小于200mm/mm2的每单位面积的脊总长度来表征。
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公开(公告)号：CN108051879A
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201810017975.3
申请日：2013-11-19
申请人： 3M创新有限公司
IPC分类号： G02B5/02
摘要： 本发明提供了光学膜。光学膜包含：结构化主表面，所述结构化主表面包含密集堆积结构，所述密集堆积结构被布置成使得在相邻结构之间形成脊，所述密集堆积结构沿两个正交平面内方向的尺寸受到限制，其中所述结构化主表面具有通过与相应的第一正交平面内方向和第二正交平面内方向相关联的第一傅立叶功率谱和第二傅立叶功率谱来表征的形貌，并且其中所述结构化主表面通过平面图中小于200mm/mm2的每单位面积的脊总长度来表征。
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