公开(公告)号：CN1348553A

公开(公告)日：2002-05-08

申请号：CN99816473.9

申请日：1999-12-13

申请人： 3M创新有限公司

发明人： D·P·奥布瑞恩 ,  J·M·芙罗克扎克 ,  R·L·史密森

IPC分类号： G03F1/00 ,  B41M5/24 ,  G03F7/36 ,  G02B27/09 ,  H01Q1/00

CPC分类号： H01Q1/2225 ,  B41M5/262 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B19/009 ,  G02B19/0095 ,  G02B27/09 ,  G02B27/0911 ,  G02B27/0966 ,  G03F1/68 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3014 ,  G03F7/34 ,  H01Q1/22 ,  H01Q7/00 ,  H05K3/027

摘要： 形成图案的物件,诸如RFID天线,是由亚消融作出的,一个包含如下步骤的工艺:A.提供一种具有诸如金属或金属氧化物镀层的衬底,和包含薄区域的界面,在该区域,该镀层和衬底彼此是最接近的;B.把镀层总面积的至少一部分曝光于诸如聚焦的激态基态复合激光光束的电磁能量通量,它足以瓦解该表面但不足以消融该镀层;以及C.用诸如超声搅动来除去与已有瓦解的界面区域部分对准的镀层部分。该工艺在产品上未留下残留的化学抗蚀剂和没有图案或图像凹蚀方面优于光致抗蚀剂工艺。该工艺在相同能量可能有较高输出量和产品表面未留下微观废弃物方面优于激光消融。