公开(公告)号：CN1348553A

公开(公告)日：2002-05-08

申请号：CN99816473.9

申请日：1999-12-13

申请人： 3M创新有限公司

发明人： D·P·奥布瑞恩 ,  J·M·芙罗克扎克 ,  R·L·史密森

IPC分类号： G03F1/00 ,  B41M5/24 ,  G03F7/36 ,  G02B27/09 ,  H01Q1/00

CPC分类号： H01Q1/2225 ,  B41M5/262 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B19/009 ,  G02B19/0095 ,  G02B27/09 ,  G02B27/0911 ,  G02B27/0966 ,  G03F1/68 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3014 ,  G03F7/34 ,  H01Q1/22 ,  H01Q7/00 ,  H05K3/027

摘要： 形成图案的物件,诸如RFID天线,是由亚消融作出的,一个包含如下步骤的工艺:A.提供一种具有诸如金属或金属氧化物镀层的衬底,和包含薄区域的界面,在该区域,该镀层和衬底彼此是最接近的;B.把镀层总面积的至少一部分曝光于诸如聚焦的激态基态复合激光光束的电磁能量通量,它足以瓦解该表面但不足以消融该镀层;以及C.用诸如超声搅动来除去与已有瓦解的界面区域部分对准的镀层部分。该工艺在产品上未留下残留的化学抗蚀剂和没有图案或图像凹蚀方面优于光致抗蚀剂工艺。该工艺在相同能量可能有较高输出量和产品表面未留下微观废弃物方面优于激光消融。

公开(公告)号：CN101052924A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200580028659.7

申请日：2005-08-23

申请人： 伊斯曼柯达公司

发明人： K·哈亚施 ,  C·纳卡穆拉 ,  E·哈亚卡瓦

IPC分类号： G03F7/30 ,  G03D3/04 ,  B41C1/10

CPC分类号： B41C1/10 ,  G03F7/3007 ,  G03F7/3014

摘要： 提供使用中性显影剂的用于平版印版前体的显影系统，该系统能够防止获得的印版的非图像区域不受污染。在采用pH为5.8－8.6的中性显影剂显影平版印版前体中，将超声波和/或电流赋予中性显影剂。

公开(公告)号：CN106338418A

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201610515719.8

申请日：2016-07-01

申请人： 生捷科技控股公司

发明人： 菲利普·克洛诺哥拉克 ,  格伦·麦克加尔 ,  李博览

IPC分类号： G01N1/28 ,  G01N1/38

CPC分类号： B01J19/0046 ,  B01J2219/00333 ,  B01J2219/0036 ,  B01J2219/00421 ,  B01J2219/00443 ,  B01J2219/00529 ,  B01J2219/00536 ,  B01J2219/00596 ,  B01J2219/00608 ,  B01J2219/00612 ,  B01J2219/00659 ,  B01J2219/00675 ,  B01J2219/00691 ,  B01J2219/00722 ,  B05C11/023 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/00 ,  B05D1/005 ,  C40B50/18 ,  C40B60/14 ,  G03F7/162 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3014 ,  G01N1/2813 ,  G01N1/38

摘要： 本公开提供了用于晶片加工的方法、装置和系统。所述晶片加工设备使用封盖分配器将至少一种试剂分散到所述晶片的表面。另外，所述晶片安置在可旋转真空吸盘的顶部，所述可旋转真空吸盘被配置成经由离心力或表面张力在所述晶片的所述表面上涂覆至少一种试剂，从而允许所述至少一种试剂与另外的试剂反应。另外，当分配所述至少一种试剂时，所述封盖分配器和所述晶片之间的分隔间隙处于预定距离，例如，50μm至2mm。