公开(公告)号：CN118497705A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202410177176.8

申请日：2024-02-08

申请人： ASM IP私人控股有限公司

发明人： T·哈坦帕 ,  P·鲁伊兹耶卡克凯宁 ,  M·瑞塔拉 ,  A·维赫瓦拉 ,  M·普特科宁

IPC分类号： C23C16/32 ,  C23C16/455

摘要： 本公开涉及通过循环沉积过程在衬底上沉积含过渡金属碳化物材料的方法和设备。该方法包括在反应室中提供衬底，将过渡金属前体以气相提供到反应室中；以及将第二前体以气相提供到反应室中，以在衬底上形成含过渡金属碳化物材料。第二前体包含环二烯化合物，其包括包含准金属的取代基。

公开(公告)号：CN118497708A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202410169351.9

申请日：2024-02-06

申请人： ASM IP私人控股有限公司

发明人： T·哈坦帕 ,  A·维赫瓦拉 ,  M·瑞塔拉

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/06

摘要： 本公开涉及通过循环沉积过程在衬底上沉积含贵金属材料的方法和设备。该方法包括在反应室中提供衬底，将贵金属前体以气相提供到反应室中；以及将第二前体以气相提供到反应室中，以在衬底上形成含贵金属材料。根据本公开的贵金属前体包括含有有机膦加合配体的贵金属卤化物。