公开(公告)号：CN115668063A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180039120.0

申请日：2021-05-07

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： E·S·斯隆 ,  A·D·哈拉尔卡 ,  丹尼尔·保罗·罗达克

IPC: G03F7/20

Abstract: 所描述的系统包括清洁工具。清洁工具被配置成插入到光刻设备中。该清洁工具包括：主体，被配置成插入到光刻设备中；清洁材料，被配置成在与光刻设备的部分接触时清洁光刻设备的该部分；以及携带清洁材料的薄膜，薄膜被配置成附接到主体并且防止清洁材料与主体的表面接触。例如包括第一层，至少部分地被清洁材料覆盖，以及第二层，被配置成附接到主体的表面并且防止清洁材料与清洁工具的表面接触，第二层被设置在第一层与主体的表面之间。

公开(公告)号：CN114641732A

公开(公告)日：2022-06-17

申请号：CN202080077444.9

申请日：2020-10-20

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： 丹尼尔·保罗·罗达克

IPC: G03F7/20

Abstract: 所描述的系统包括清洁工具。所述清洁工具被配置为以第一配置插入光刻设备中，由所述光刻设备的工具处置器接合，并且用于清洁所述光刻设备的部分。所述清洁工具被配置为在由所述工具处置器接合之后从所述第一配置移动至扩展的第二配置，使得所述清洁工具在用于清洁所述光刻设备的所述部分时处于所述第二配置。所述系统包括容器，所述容器被配置为容纳处于所述第一配置的所述清洁工具并且装配至所述光刻设备中。所述清洁工具被配置为在所述容器中插入所述光刻设备中，由所述工具处置器从所述容器移出以用于所述清洁，并且在所述清洁之后借助于所述工具处置器返回至所述容器。