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公开(公告)号：CN107111249A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071512.X
申请日：2015-12-07
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70066 , G03F7/702 , G03F7/70866
Abstract: 一种光刻设备在图案化装置(MA)与图案化装置遮蔽刀片(REB‑X,Y)之间注入气体，以帮助保护图案化装置免受污染。可以通过布置在图案化装置的至少一侧的一个或多个气体供应喷嘴(200)，将气体注入到在图案化装置与图案化装置刀片之间限定的空间中。一个或多个气体供应喷嘴耦合到框架，图案化装置支承结构(MT)相对于该框架移动。每个喷嘴可以被构造和布置为在反射图案化装置的至少图案化区域上方供应气体。
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