Patent search ap:("ASML控股股份有限公司") AND inv:"I·采马" Page 1

1.

发明公开
光刻簇、光刻设备和器件制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN111316170A

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201880071423.9

申请日：2018-10-26

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： I·采马 , E·B·凯蒂 , J·D·康妮

IPC: G03F7/20 , H01L21/66 , G03F9/00

Abstract: 一种光刻簇包括轨道单元和光刻设备。该光刻设备包括对准传感器和至少一个控制器。该轨道单元被配置为处理第一批次和第二批次。该光刻设备可操作地耦接到该轨道单元。该对准传感器被配置为测量校准晶片的至少一个对准标记类型的对准。至少一个控制器被配置为基于所测量的该至少一个对准标记类型的对准来确定用于校准该光刻设备的校正集合，并且将第一权重校正和第二权重校正应用于该校正集合，以用于分别处理该第一批次和该第二批次，以便使得在处理该第一批次和该第二批次期间的重叠漂移或跳动减少。

Patent Agency Ranking