公开(公告)号：CN101917110A

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200910258374.2

申请日：2009-12-14

申请人： ASML控股股份有限公司

发明人： K·K·曼卡拉 ,  R·B·维纳 ,  P·K·果维欧 ,  A·尼尔森

IPC分类号： H02K41/02 ,  G03F7/20

CPC分类号： H02K41/03 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70941 ,  H02K11/01 ,  H02K2201/18

摘要： 本发明提供一种线性电动机磁屏蔽件设备。在该设备中，具有无磁性间隙的磁屏蔽件为精确定位系统中的线性电动机排列提供减小的磁性串扰。重新引导漏磁通抑制了串扰和相关的有害效应。这种优选的泄漏的磁通路路径被附于线性电动机的移动的磁体系统。通过提供由永磁体和背铁之间的无磁性间隙隔离的铁磁性屏蔽件，实现优选的磁通泄漏路径的实施例。在另一实施例中，铁磁性屏蔽件隔离包括反磁材料。

公开(公告)号：CN116762042A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202280012410.0

申请日：2022-01-16

申请人： ASML控股股份有限公司

发明人： R·B·维纳 ,  K·K·曼卡拉 ,  托德·R·丹尼

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 提供用于调整光刻设备中的照射狭缝均匀性的系统、设备和方法。示例方法可包括由辐射源利用辐射来照射指状物组件的一部分。所述示例方法还可以包括由辐射检测器响应于对所述指状物组件的所述部分的所述照射来接收所述辐射的至少一部分。所述示例方法还可以包括由处理器基于所接收的辐射来确定所述指状物组件的形状的改变。所述示例方法还可以包括由所述处理器产生控制信号，所述控制信号被配置成基于所述指状物组件的所述形状的所确定的改变来修改所述指状物组件的位置。随后，所述示例方法可以包括由所述处理器将所述控制信号传输至被联接至所述指状物组件的运动控制系统。

公开(公告)号：CN115004109A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202180010634.3

申请日：2021-01-21

申请人： ASML控股股份有限公司

发明人： P·C·科奇斯珀格 ,  C·M·道汉 ,  J·L·克勒泽 ,  M·E·帕洛斯基 ,  A·本迪克塞 ,  K·U·索博列夫 ,  J·H·沃尔什 ,  R·B·维纳 ,  A·M·温卡塔拉曼

IPC分类号： G03F1/84

摘要： 检查系统包括产生辐射束并且照射物体的第一表面的辐射源，从而限定所述物体的所述第一表面的区。所述辐射源还照射所述物体的第二表面，从而限定所述第二表面的区，其中所述第二表面位于所述物体内的与所述第一表面不同的深度水平处。所述检查系统也可以包括检测器，所述检测器限定所述第一表面的包括所述第一表面的所述区的视场(FOV)、并且接收从所述第一表面的所述区和所述第二表面的所述区散射的辐射。所述检查系统也可以包括处理器，所述处理器丢弃并非从所述第一表面的所述区接收的图像数据、并且构造合成图像，所述合成图像包括来自遍及所述第一表面的整个所述区的所述图像数据。

公开(公告)号：CN115023604A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202180011386.4

申请日：2021-01-21

申请人： ASML控股股份有限公司

发明人： 克里斯托弗·迈克尔·多汉 ,  詹姆斯·汉密尔顿·沃尔什 ,  R·B·维纳

IPC分类号： G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G03F1/84 ,  G03F7/20

摘要： 描述了一种图案形成装置检查设备、系统和方法。根据一方面，披露了一种检查方法，所述方法包括在检查系统内的多元件检测器处接收在物体的表面处散射的辐射。所述方法还包括利用处理电路测量所述多元件检测器的每个元件的输出，所述输出对应于接收到的被散射的辐射。而且，所述方法包括利用处理电路，通过识别包括所述多元件检测器的具有高于预定阈值的被测量的输出的一个或更多个元件的有效像素区域，来校准所述多元件检测器。所述方法还包括识别包括所述多元件检测器的剩余元件的无效像素区域。另外，所述方法包括将所述有效像素区域设置为所述多元件检测器与引起所述被散射的辐射的光源之间的默认对准设置。

公开(公告)号：CN115210649A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202180010795.2

申请日：2021-01-26

申请人： ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： R·B·维纳 ,  P·C·科奇斯珀格 ,  B·科根 ,  M·A·W·崔帕斯 ,  R·J·韦德 ,  S·埃文斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/683

摘要： 本文的实施例描述了用于掩模版夹具阻尼器和隔离系统的方法、装置和系统，用于输送掩模版并且减少光刻设备和系统的掩模版输送器中的振动。一种掩模版输送器设备包括掩模版输送器臂、被配置为保持掩模版的掩模版基板以及被布置为将掩模版基板连接至掩模版输送器臂的夹具。夹具包括被耦接至掩模版输送器臂的静态结构、被耦接至静态结构的隔离结构以及一个或多个阻尼元件。夹具被配置为使用一个或多个阻尼元件来减少掩模版输送器设备中的掩模版的振动。

公开(公告)号：CN101917110B

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN200910258374.2

申请日：2009-12-14

申请人： ASML控股股份有限公司

发明人： K·K·曼卡拉 ,  R·B·维纳 ,  P·K·果维欧 ,  A·尼尔森

IPC分类号： H02K41/02 ,  G03F7/20

CPC分类号： H02K41/03 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70941 ,  H02K11/01 ,  H02K2201/18

摘要： 本发明提供一种线性电动机磁屏蔽件设备。在该设备中，具有无磁性间隙的磁屏蔽件为精确定位系统中的线性电动机排列提供减小的磁性串扰。重新引导漏磁通抑制了串扰和相关的有害效应。这种优选的泄漏的磁通路路径被附于线性电动机的移动的磁体系统。通过提供由永磁体和背铁之间的无磁性间隙隔离的铁磁性屏蔽件，实现优选的磁通泄漏路径的实施例。在另一实施例中，铁磁性屏蔽件隔离包括反磁材料。