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公开(公告)号：CN111465902A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201880080677.7
申请日：2018-12-04
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/956 , G02B27/28
Abstract: 根据一个实施例，提供了一种棱镜系统(900)。棱镜系统包括偏振分束器(PBS)表面。所述PBS表面被配置为从接收到的束(917)中产生具有对应的第一偏振信息和第二偏振信息的第一子束(919a)和第二子束(921a)，所述第二偏振信息不同于所述第一偏振信息。所述棱镜系统内的所述第一子束的第一光路具有的长度与所述棱镜系统内的所述第二子束的第二光路的长度基本相同。另外地或替代地，所述第一子束达到预定的偏振消光比。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113557477B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202080020477.X
申请日：2020-02-28
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： S·斯米诺夫
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种用以降低被布置成测量衬底的高度的水平传感器对于所述水平传感器中的光学部件的性质的变化的灵敏度的方法，包括：朝向衍射元件引导辐射的束；和经由光学系统，以第一入射角将所述束引导至第一反射元件。所述束具有第一偏振和垂直于所述第一偏振的第二偏振。所述第一反射元件以第二入射角朝向第二反射元件反射所述束，使得所述束入射到所述衬底上。所述第一入射角和所述第二入射角被选择成减小所述束的所述第一偏振与所述第二偏振的强度比率的、由所述第一反射元件和所述第二反射元件中的至少一个的层的性质所施加的变化。
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公开(公告)号：CN113557477A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020477.X
申请日：2020-02-28
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： S·斯米诺夫
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种用以降低被布置成测量衬底的高度的水平传感器对于所述水平传感器中的光学部件的性质的变化的灵敏度的方法，包括：朝向衍射元件引导辐射的束；和经由光学系统，以第一入射角将所述束引导至第一反射元件。所述束具有第一偏振和垂直于所述第一偏振的第二偏振。所述第一反射元件以第二入射角朝向第二反射元件反射所述束，使得所述束入射到所述衬底上。所述第一入射角和所述第二入射角被选择成减小所述束的所述第一偏振与所述第二偏振的强度比率的、由所述第一反射元件和所述第二反射元件中的至少一个的层的性质所施加的变化。
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公开(公告)号：CN108475024A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680077317.2
申请日：2016-12-06
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种检查设备，包括：衬底保持装置，其配置成保持衬底；孔装置；和光学系统，其配置成将第一测量辐射束引导至衬底上，该第一测量辐射束具有第一强度分布，且光学系统配置成在第一测量束被引导至衬底上的同时将第二聚焦辐射束引导至衬底上，该第二聚焦辐射束具有第二强度分布，其中第二强度分布的至少部分至少在衬底处和/或孔装置处与第一强度分布在空间上分离。
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公开(公告)号：CN111465902B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201880080677.7
申请日：2018-12-04
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/956 , G02B27/28
Abstract: 根据一个实施例，提供了一种棱镜系统(900)。棱镜系统包括偏振分束器(PBS)表面。所述PBS表面被配置为从接收到的束(917)中产生具有对应的第一偏振信息和第二偏振信息的第一子束(919a)和第二子束(921a)，所述第二偏振信息不同于所述第一偏振信息。所述棱镜系统内的所述第一子束的第一光路具有的长度与所述棱镜系统内的所述第二子束的第二光路的长度基本相同。另外地或替代地，所述第一子束达到预定的偏振消光比。
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公开(公告)号：CN108475024B
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201680077317.2
申请日：2016-12-06
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种检查设备，包括：衬底保持装置，其配置成保持衬底；孔装置；和光学系统，其配置成将第一测量辐射束引导至衬底上，该第一测量辐射束具有第一强度分布，且光学系统配置成在第一测量束被引导至衬底上的同时将第二聚焦辐射束引导至衬底上，该第二聚焦辐射束具有第二强度分布，其中第二强度分布的至少部分至少在衬底处和/或孔装置处与第一强度分布在空间上分离。
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