公开(公告)号：CN115176202A

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN202080094125.9

申请日：2020-12-24

申请人： ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： R·P·奥尔布赖特 ,  K·巴尔 ,  V·Y·拜尼恩 ,  理查德·J·布鲁尔斯 ,  S·F·德弗里斯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  黄仰山 ,  黄壮雄 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  G·N·内恩查夫 ,  A·尼基帕罗夫 ,  T·M·瑞斯费尔德 ,  M·兰詹 ,  E·特斯莱特 ,  K·R·乌姆施塔特 ,  E·乌兹戈伦 ,  M·A·范德柯克霍夫 ,  P·耶格霍比

IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

摘要： 一种设备，包括：辐射接收设备，该辐射接收设备设置有开口，该辐射接收设备能够操作为通过开口接收来自辐射源的辐射；其中，该辐射接收设备包括偏转设备，该偏转设备被布置成改变颗粒通过开口到达辐射接收设备的轨迹。

公开(公告)号：CN118613764A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202380018616.9

申请日：2023-01-05

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： E·特斯莱特 ,  A·L·克莱因 ,  保罗·亚历山大·维梅伦 ,  A·J·沃尔夫 ,  I·格瑞森

IPC分类号： G03F1/82 ,  G03F7/20

摘要： 一种用于清洁与光刻过程相关的诸如表膜、掩膜、晶片的部件或另一光刻部件的清洁系统，包括至少一个辐射发射器，所述至少一个辐射发射器被配置成在使用中辐照所述部件的区，以在所述部件中引起热机械振动和/或引发存在于所述部件上的污染物的溅射。