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公开(公告)号：CN111771166B
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN201980013338.1
申请日：2019-02-04
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： 理查德·J·布鲁尔斯 , R·P·奥尔布赖特 , P·C·科奇斯珀格 , V·A·佩雷斯-福尔肯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少静电卡盘(300)附近的颗粒的方法和系统，其中清洁掩模版或衬底(320)被固定到该卡盘，清洁掩模版或衬底的表面部分地缺少导电材料，使得来自卡盘的电场可以穿过以到达邻近该衬底的体积，从而将该体积中的颗粒以具有交替的极性，以增强颗粒到表面的吸引。(360)牵引至衬底的表面。施加到卡盘的电压可
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公开(公告)号：CN109564394A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780046859.8
申请日：2017-07-17
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F1/24 , G03F1/64 , G03F7/70033 , G03F7/70983
摘要： 颗粒捕集器组件配置成减少具有较大范围的尺寸、材料、行进速度和入射角的污染物颗粒到达颗粒敏感环境的可能性。所述颗粒捕集器可以是位于光刻设备的静止零件与可移动零件之间的间隙几何颗粒捕集器。所述颗粒捕集器也可以是位于光刻或量测设备中的颗粒敏感环境的表面上的表面几何颗粒捕集器。
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公开(公告)号：CN109564394B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201780046859.8
申请日：2017-07-17
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 颗粒捕集器组件配置成减少具有较大范围的尺寸、材料、行进速度和入射角的污染物颗粒到达颗粒敏感环境的可能性。所述颗粒捕集器可以是位于光刻设备的静止零件与可移动零件之间的间隙几何颗粒捕集器。所述颗粒捕集器也可以是位于光刻或量测设备中的颗粒敏感环境的表面上的表面几何颗粒捕集器。
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公开(公告)号：CN111771166A
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201980013338.1
申请日：2019-02-04
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： 理查德·J·布鲁尔斯 , R·P·奥尔布赖特 , P·C·科奇斯珀格 , V·A·佩雷斯-福尔肯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少静电卡盘(300)附近的颗粒的方法和系统，其中清洁掩模版或衬底(320)被固定到该卡盘，清洁掩模版或衬底的表面部分地缺少导电材料，使得来自卡盘的电场可以穿过以到达邻近该衬底的体积，从而将该体积中的颗粒(360)牵引至衬底的表面。施加到卡盘的电压可以具有交替的极性，以增强颗粒到表面的吸引。
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公开(公告)号：CN115176202A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202080094125.9
申请日：2020-12-24
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： R·P·奥尔布赖特 , K·巴尔 , V·Y·拜尼恩 , 理查德·J·布鲁尔斯 , S·F·德弗里斯 , O·W·V·弗吉恩斯 , 黄仰山 , 黄壮雄 , J·H·W·雅各布斯 , J·H·J·莫尔斯 , G·N·内恩查夫 , A·尼基帕罗夫 , T·M·瑞斯费尔德 , M·兰詹 , E·特斯莱特 , K·R·乌姆施塔特 , E·乌兹戈伦 , M·A·范德柯克霍夫 , P·耶格霍比
摘要： 一种设备，包括：辐射接收设备，该辐射接收设备设置有开口，该辐射接收设备能够操作为通过开口接收来自辐射源的辐射；其中，该辐射接收设备包括偏转设备，该偏转设备被布置成改变颗粒通过开口到达辐射接收设备的轨迹。
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公开(公告)号：CN110945433B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN201880049089.7
申请日：2018-07-18
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 提供了设计以减少具有大范围的尺寸、材料、行进速率和入射角的污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性。根据本公开的方面，提供有包括第一腔室和第二腔室、具有第一表面的第一结构、和第二结构的物体平台。第二结构配置成支撑第二腔室中的物体，所述第二结构可相对于第一结构移动。第二结构包括第二表面，所述第二表面与第一结构的第一表面相对，从而限定在第一结构与第二结构之间的间隙，所述间隙在第一腔室与第二腔室之间延伸。第二结构还包括第一腔室内的第三表面。所述物体平台还包括设置在所述第三表面的至少一部分上的捕获器，所述捕获器包括多个挡板。
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公开(公告)号：CN110945433A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880049089.7
申请日：2018-07-18
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 提供了设计以减少具有大范围的尺寸、材料、行进速率和入射角的污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性。根据本公开的方面，提供有包括第一腔室和第二腔室、具有第一表面的第一结构、和第二结构的物体平台。第二结构配置成支撑第二腔室中的物体，所述第二结构可相对于第一结构移动。第二结构包括第二表面，所述第二表面与第一结构的第一表面相对，从而限定在第一结构与第二结构之间的间隙，所述间隙在第一腔室与第二腔室之间延伸。第二结构还包括第一腔室内的第三表面。所述物体平台还包括设置在所述第三表面的至少一部分上的捕获器，所述捕获器包括多个挡板。
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公开(公告)号：CN113227904B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN201980085779.2
申请日：2019-12-12
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： J·J·隆巴尔多 , R·P·奥尔布赖特 , D·L·哈勒 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , A·贾奇
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。
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公开(公告)号：CN118818920A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202411200404.5
申请日：2019-12-12
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： J·J·隆巴尔多 , R·P·奥尔布赖特 , D·L·哈勒 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , A·贾奇
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。
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公开(公告)号：CN113227904A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980085779.2
申请日：2019-12-12
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： J·J·隆巴尔多 , R·P·奥尔布赖特 , D·L·哈勒 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , A·贾奇
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。
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