利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

6 条记录 (耗时 0.047 秒)

    污染物检测系统和方法
    1.
    发明公开
    污染物检测系统和方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN116868122A

    公开(公告)日：2023-10-10

    申请号：CN202280014666.5

    申请日：2022-01-21

    申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

    发明人： N·潘迪 ,  J·L·克勒泽 ,  M·E·帕洛斯基 ,  郭玮

    IPC分类号： G03F1/62

    摘要： 一种系统，可包括：光源，被配置成照射表膜的表面；扫描器，被配置成扫描表膜的表面；光谱仪，被配置成测量参考信号的拉曼光谱和测试信号的拉曼光谱，参考信号基于来自表膜的表面和/或掩模版的表面的测量结果，测试信号基于所照射的表膜的表面；以及处理器。处理器可配置成确定参考信号的拉曼光谱与测试信号的拉曼光谱之间的差异，以及响应于检测到参考信号的拉曼光谱与测试信号的拉曼光谱的偏差，识别表膜的表面上的污染物的存在。

    污染物检测量测系统、光刻设备及其方法
    2.
    发明公开
    污染物检测量测系统、光刻设备及其方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN114930249A

    公开(公告)日：2022-08-19

    申请号：CN202080091254.2

    申请日：2020-12-08

    申请人： ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

    发明人： M·E·帕洛斯基 ,  A·本迪克塞 ,  R·A·蒙登 ,  H-K·尼恩惠斯

    IPC分类号： G03F1/84 ,  G03F7/20

    摘要： 一种系统(400)，包括照射系统(402)、检测器(404)和比较器(406)。所述照射系统包括辐射源(408)和空间光调制器(410)。所述辐射源产生辐射的束(442)。所述空间光调制器朝向物体(428)的表面(436)引导所述束并调整所述束在所述表面处的空间强度分布。所述检测器接收在所述表面处散射的辐射和由在所述表面附近的结构(434)散射的辐射(444)。所述检测器基于所接收的辐射来产生检测信号。所述比较器接收所述检测信号，基于所述检测信号来产生第一图像，以及基于所述第一图像以及调整后的空间强度分布来区分假信号、和与外来颗粒在所述表面上的存在相对应的信号。

    用于使用具有孔径变迹的结构照射进行掩模版粒子检测的检查系统
    4.
    发明公开
    用于使用具有孔径变迹的结构照射进行掩模版粒子检测的检查系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN117413221A

    公开(公告)日：2024-01-16

    申请号：CN202280039462.7

    申请日：2022-05-24

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： M·E·帕洛斯基 ,  J·L·克勒泽

    IPC分类号： G03F1/84

    摘要： 一种检查系统，包括投影系统，所述投影系统包括：辐射源，所述辐射源被配置成沿照射路径传输照射束；和孔径光阑，所述孔径光阑被配置成选择所述照射束的一部分。所述检查系统还包括：孔径光阑，所述孔径光阑选择所述照射束的一部分；和光学系统，所述光学系统将所述照射束的被选择的部分朝向物体传输并且传输从所述物体散射的信号束。所述检查系统还包括检测所述信号束的检测器。

    用于改善粒子检查系统的生产量的双扫描光学机械配置
    5.
    发明公开
    用于改善粒子检查系统的生产量的双扫描光学机械配置 审中-公开

    公开(公告)号：CN116209956A

    公开(公告)日：2023-06-02

    申请号：CN202180059164.X

    申请日：2021-07-20

    申请人： ASML控股股份有限公司

    发明人： M·E·帕洛斯基

    IPC分类号： G03F7/20

    摘要： 提供了用于增加粒子检查系统的生产量的系统、设备和方法。在粒子检查系统的曝光时间段的第一部分期间，示例性方法可以包括：照射衬底表面的第一区域，阻挡第一区域以外的所有反射的辐射，以及基于从第一区域反射的辐射生成第一区域的第一子图像。在曝光时间段的第二部分期间，示例性方法可以进一步包括：照射衬底表面的第二区域，阻挡第二区域以外的所有反射的辐射，以及基于从第二区域反射的辐射生成第二区域的第二子图像。然后，示例性方法可以包括基于第一子图像和第二子图像生成复合图像。