公开(公告)号：CN107771271B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201680033826.5

申请日：2016-04-18

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 曾思翰 ,  彭玥霖 ,  方仁宇 ,  A·J·登博夫 ,  A·斯塔杰 ,  洪敬懿 ,  P·沃纳尔

IPC分类号： G01B11/24 ,  G03F7/20 ,  G01B11/27

摘要： 公开了用于测量光刻工艺的参数的方法、计算机程序和相关联的设备。方法包括如下步骤：获得包括与多个第一结构有关的结构不对称性的测量的第一测量，结构不对称性的所述多个测量中的每一个对应于测量辐射的不同测量组合和至少第一参数的值；获得与多个目标有关的目标不对称性的多个第二测量，目标不对称性的所述多个测量中的每一个对应于所述不同测量组合中的一个；针对所述测量组合中的每一个确定描述所述第一测量与所述第二测量之间的关系的关系函数；从所述关系函数确定校正重叠值，所述校正重叠值针对归因于至少所述第一结构中的结构不对称性的结构贡献被校正。

公开(公告)号：CN107771271A

公开(公告)日：2018-03-06

申请号：CN201680033826.5

申请日：2016-04-18

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 曾思翰 ,  彭玥霖 ,  方仁宇 ,  A·J·登博夫 ,  A·斯塔杰 ,  洪敬懿 ,  P·沃纳尔

IPC分类号： G01B11/24 ,  G03F7/20 ,  G01B11/27

摘要： 公开了用于测量光刻工艺的参数的方法、计算机程序和相关联的设备。方法包括如下步骤：获得包括与多个第一结构有关的结构不对称性的测量的第一测量，结构不对称性的所述多个测量中的每一个对应于测量辐射的不同测量组合和至少第一参数的值；获得与多个目标有关的目标不对称性的多个第二测量，目标不对称性的所述多个测量中的每一个对应于所述不同测量组合中的一个；针对所述测量组合中的每一个确定描述所述第一测量与所述第二测量之间的关系的关系函数；从所述关系函数确定校正重叠值，所述校正重叠值针对归因于至少所述第一结构中的结构不对称性的结构贡献被校正。