-
公开(公告)号：CN113841090A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202080037099.6
申请日：2020-05-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种致动器组件，包括第一压电致动器和第二压电致动器。根据第一方面，所述压电致动器包括校正单元，其被配置为确定：输出电压差，表示所述第一压电致动器的所述输出端子处的电压与所述第二压电致动器的所述输出端子处的电压之间的差异；以及基于所述输出电压差的用于校正所述第一功率信号的第一功率校正和/或用于校正所述第二功率信号的第二功率校正。根据第二方面，一种功率单元，所述功率单元被配置为基于所述设定点来生成用于所述第一压电致动器和所述第二压电致动器的功率信号，并且向所述第一压电致动器的所述第一端子和所述第二压电致动器的所述第二端子提供所述功率信号。
-
公开(公告)号：CN101676804A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200910173503.8
申请日：2009-09-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种光刻设备和运行该光刻设备的方法。所述光刻设备包括投影系统，和液体限制结构，该液体限制结构配置用以至少部分地将浸没液体限制到由投影系统、所述液体限制结构和衬底和/或衬底台所限定的浸没空间，其中在投影系统、液体限制结构和浸没空间内的浸没液体之间限定湿润气体空间，该湿润气体空间配置用以限制湿润气体。
-
公开(公告)号：CN103843463A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201280049179.9
申请日：2012-09-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
CPC classification number: G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 一种辐射源，适于提供辐射束至光刻设备的照射器。辐射源包括：喷嘴，配置成沿轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴的束流。辐射源配置成接收第一辐射量辐射，使得在使用中第一辐射量辐射入射到等离子体形成位置处的燃料液滴上，并使得在使用中第一辐射量辐射将能量传递至燃料液滴以生成发射第二辐射量辐射的用于产生辐射的等离子体。辐射源还包括：第一传感器布置，配置成测量表示第一辐射量辐射的聚焦点位置的第一辐射量辐射的性质；和第二传感器布置，配置成测量表示燃料液滴位置的燃料液滴的性质。
-
公开(公告)号：CN113661448A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202080027579.4
申请日：2020-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·詹森 , S·A·A·阿布德尔莫伊蒂 , H·巴特勒 , K·J·F·卢南 , A·辛格 , R·E·J·R·范德维尔登
Abstract: 本发明涉及一种物体定位系统，包括：致动器系统；和测量系统，其中致动器系统包括由主要具有电致伸缩特性并且在没有电场的情况下基本没有净极化的材料制成的致动器，其中致动器系统被配置为向致动器施加电场，该电场包括偏置电场和叠加在偏置电场上的致动电场，所述致动电场的场强等于或小于偏置电场的场强，其中测量系统被配置为测量致动器的电特性，该电特性代表致动器的机械状态。
-
公开(公告)号：CN113497176A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110366942.1
申请日：2021-04-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·J·赫尔曼努森 , J·P·M·B·沃麦尤伦 , B·詹森
IPC: H01L41/047 , H01L41/09 , G02B27/00 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种具有长度、宽度和厚度的压电换能器，其中所述压电换能器包括沿长度和宽度方向延伸的多个层的叠层，其中所述多个层的叠层包括多个第一层和多个第二层的多个层的叠层，在沿厚度方向观察时第一层被布置成紧挨着第二层，其中每个第一层包括压电材料，其中每个第二层包括电极，其中所述电极被配置成主要在平行于所述第二层的平面中施加电场，其中所述多个第一层和所述多个第二层中的一种的层数是至少两层，并且其中所述多个第一层和所述多个第二层中的另一种的层数是至少三层。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113366320A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080012377.2
申请日：2020-01-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电子系统，所述电子系统用于具有压电元件和第一机械共振频率的加速度计，所述电子系统包括：a)阻尼电路，所述阻尼电路被配置成：‑接收来自所述压电元件的加速度信号，‑以电学方式使所述第一机械共振频率的振幅减幅；以及‑产生经减幅的加速度信号，b)扩展器，所述扩展器被配置成：‑接收经减幅的加速度信号；‑扩展频率响应；以及‑输出经扩展的经减幅的加速度信号，其中所述扩展器被配置成具有与经减幅的第一机械共振频率相匹配的第一电子反共振频率，并且被配置成具有介于所述第一电子反共振频率与更高的第二频率之间的、与所述加速度计和所述阻尼电路的组合的相对应的频率响应大致相反的频率响应。
-
公开(公告)号：CN109564398B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201780048911.3
申请日：2017-06-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种定位系统，所述定位系统包括第一主体、第二主体、布置在第一主体和第二主体之间的致动器以相对于第二主体定位第一主体；其中所述致动器包括串联布置的第一压电致动器和第二压电致动器，其中第一压电致动器具有第一迟滞，其中第二压电致动器具有第二迟滞，所述第二迟滞小于第一迟滞，其中第二压电致动器具有至少等于第一迟滞的定位范围。
-
公开(公告)号：CN114208018A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080054580.6
申请日：2020-06-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·詹森 , K·M·W·J·波斯 , J·P·M·B·弗穆伦
Abstract: 公开了热机械致动器(100)，其包括压电模块(110)，压电模块包括至少一个压电元件(120)，其中热机械致动器被配置为：接收用于控制压电模块的热行为的热致动信号(132)或者提供表示压电模块的热状态的热感测信号(132)，并且其中热机械致动器被配置为：接收用于控制压电模块的机械行为的机械致动(134)信号，或者提供表示压电模块的机械状态的机械感测信号(134)。
-
公开(公告)号：CN109564398A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780048911.3
申请日：2017-06-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种定位系统，所述定位系统包括第一主体、第二主体、布置在第一主体和第二主体之间的致动器以相对于第二主体定位第一主体；其中所述致动器包括串联布置的第一压电致动器和第二压电致动器，其中第一压电致动器具有第一迟滞，其中第二压电致动器具有第二迟滞，所述第二迟滞小于第一迟滞，其中第二压电致动器具有至少等于第一迟滞的定位范围。
-
公开(公告)号：CN101676804B
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN200910173503.8
申请日：2009-09-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种光刻设备和运行该光刻设备的方法。所述光刻设备包括投影系统，和液体限制结构，该液体限制结构配置用以至少部分地将浸没液体限制到由投影系统、所述液体限制结构和衬底和/或衬底台所限定的浸没空间，其中在投影系统、液体限制结构和浸没空间内的浸没液体之间限定湿润气体空间，该湿润气体空间配置用以限制湿润气体。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.02 seconds)
