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公开(公告)号：CN119256274A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202380042749.X
申请日：2023-07-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中公开了一种系统，该系统包括：带电粒子束检查设备，所述带电粒子束检查设备被配置为扫描包括具有多个图案层的目标的样本；以及控制器，所述控制器包括电路系统，该控制器被配置为：响应于目标的扫描而获得检测数据；以及根据所获得的检测数据和模型确定样本的一个或更多个特性；其中，对于目标的多个图案层中的每一图案层，模型包括根据图案层的性质的项。
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