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公开(公告)号:CN119256274A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202380042749.X
申请日:2023-07-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中公开了一种系统,该系统包括:带电粒子束检查设备,所述带电粒子束检查设备被配置为扫描包括具有多个图案层的目标的样本;以及控制器,所述控制器包括电路系统,该控制器被配置为:响应于目标的扫描而获得检测数据;以及根据所获得的检测数据和模型确定样本的一个或更多个特性;其中,对于目标的多个图案层中的每一图案层,模型包括根据图案层的性质的项。
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公开(公告)号:CN118974655A
公开(公告)日:2024-11-15
申请号:CN202380032586.7
申请日:2023-03-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/00 , G01N23/2251 , H01J37/28 , H01L21/66
Abstract: 公开了用于确定由电子束用于套刻测量的一个或多个参数的系统、非暂态计算机可读介质和方法。在一些实施例中,该方法包括基于晶片叠层的多个特性和在晶片叠层上的多个特征处检测到的多个背散射电子(BSE)产率来确定晶片叠层的套刻测量的获取时间。该方法还包括基于对套刻测量的获取时间的优化来确定包括电子束的着陆能量的一个或多个参数。
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公开(公告)号:CN116615750A
公开(公告)日:2023-08-18
申请号:CN202180084294.9
申请日:2021-11-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G06T7/593
Abstract: 本文中描述了用于确定图案化衬底的结构的三维(3D)信息的系统、方法和装置。3D信息可以使用一个或多个模型来确定,该模型被配置为仅使用图案化衬底的单个图像来生成3D信息(例如,深度信息)。在一种方法中,该模型通过获取图案化衬底的结构的一对立体图像来训练。该模型使用该一对立体图像中的第一图像作为输入而生成第一图像与第二图像之间的视差数据,该视差数据指示与第一图像相关联的深度信息。视差数据与第二图像组合以生成与第一图像相对应的重构图像。此外,一个或多个模型参数基于视差数据、重构图像和第一图像被调节。
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公开(公告)号:CN118235227A
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202280075359.8
申请日:2022-10-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/22
Abstract: 本文公开了一种在其中存储有计算机程序的非暂态计算机可读介质,其中该计算机程序包括当由计算机系统执行时指示计算机系统执行确定SEM图像的充电诱导的失真的方法的代码。该方法包括:在样品的至少一部分的SEM图像中的多个位置中的每个位置处确定由样品在该位置处的充电诱导的照射带电粒子束的偏转;以及根据在SEM图像中的多个位置中的每个位置处所确定的偏转来确定SEM图像的充电诱导的失真。
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公开(公告)号:CN116559495A
公开(公告)日:2023-08-08
申请号:CN202310533702.5
申请日:2019-03-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本公开涉及量测方法和相关装置。公开了一种用于确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法和相关装置,特征被包括在包括噪声的图像(诸如扫描电子显微镜图像)内。该方法包括从图像确定参考信号;以及确定相对于上述参考信号的边缘位置。通过在与估计边缘位置的初始轮廓平行的方向上应用图像至一维低通滤波器,可以从图像确定参考信号。
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公开(公告)号:CN111886548B
公开(公告)日:2023-05-26
申请号:CN201980020816.1
申请日:2019-03-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种用于确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法和相关装置,特征被包括在包括噪声的图像(诸如扫描电子显微镜图像)内。该方法包括从图像确定参考信号;以及确定相对于上述参考信号的边缘位置。通过在与估计边缘位置的初始轮廓平行的方向上应用图像至一维低通滤波器,可以从图像确定参考信号。
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公开(公告)号:CN114556516A
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN202080073007.X
申请日:2020-08-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于图像增强的系统和方法。用于增强图像的方法可以包括获取扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还可以包括模拟与SEM图像的位置相关联的扩散电荷。该方法还可以包括基于SEM图像和扩散电荷来提供增强的SEM图像。
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公开(公告)号:CN112424903B
公开(公告)日:2025-03-07
申请号:CN201980046684.X
申请日:2019-07-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于使用多光束设备进行图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法包括通过使用多光束设备的同轴光束获取第一扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还包括通过使用多光束设备的离轴光束获取第二SEM图像。该方法还包括通过使用第一SEM图像作为参考来增强第二SEM图像而提供经增强图像。经增强图像可以通过使用从第一图像所提取的一个或多个特征来增强第二SEM图像而被提供或使用第一SEM图像作为参考来对第二SEM图像进行数值增强而被提供。
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公开(公告)号:CN115427893A
公开(公告)日:2022-12-02
申请号:CN202180026926.6
申请日:2021-03-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: M·皮萨伦科 , S·A·米德尔布鲁克 , T·J·胡伊斯曼
IPC: G03F7/20 , G01N21/956 , G06T5/00 , G06T7/00
Abstract: 一种检查工具包括:成像系统,被配置为对半导体衬底的一部分进行成像;图像分析系统,被配置为:从所述成像系统获得所述半导体衬底上的结构的图像;将所述结构的图像编码到潜在空间中,从而形成第一编码;从所述编码中减去表示所述图像中伪影的伪影向量,从而形成第二编码;并且对所述第二编码进行解码10,以获得经解码的图像。
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公开(公告)号:CN112424903A
公开(公告)日:2021-02-26
申请号:CN201980046684.X
申请日:2019-07-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于使用多光束设备进行图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法包括通过使用多光束设备的同轴光束获取第一扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还包括通过使用多光束设备的离轴光束获取第二SEM图像。该方法还包括通过使用第一SEM图像作为参考来增强第二SEM图像而提供经增强图像。经增强图像可以通过使用从第一图像所提取的一个或多个特征来增强第二SEM图像而被提供或使用第一SEM图像作为参考来对第二SEM图像进行数值增强而被提供。
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