公开(公告)号：CN1885169B

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：CN200610093280.0

申请日：2006-06-23

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： D·-J·比杰弗特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F7/707

摘要： 一种光刻装置，包括：构造成支撑构图部件的支撑结构和构造成保持基底的基底台中的至少一个，该构图部件能够将图案赋予辐射光束的截面以形成带图案的辐射光束；其中支撑结构和基底台中的至少一个包括接触表面，构图部件和基底分别与该接触表面接触，该接触表面包括多个分接触表面，以便分别增大支撑结构和构图部件之间以及基底台和基底之间至少之一的相互附着力。

公开(公告)号：CN1885169A

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：CN200610093280.0

申请日：2006-06-23

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： D·-J·比杰弗特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F7/707

摘要： 一种光刻装置，包括：构造成支撑构图部件的支撑结构和构造成保持基底的基底台中的至少一个，该构图部件能够将图案赋予辐射光束的截面以形成带图案的辐射光束；其中支撑结构和基底台中的至少一个包括接触表面，构图部件和基底分别与该接触表面接触，该接触表面包括多个分接触表面，以便分别增大支撑结构和构图部件之间以及基底台和基底之间至少之一的相互附着力。