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公开(公告)号：CN108292109B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201680070006.3
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·纳齐博格鲁 , C·H·M·伯尔蒂斯 , S·A·特姆普 , Y·J·G·范德维基沃尔 , B·D·斯霍尔滕 , D·D·J·A·范索姆恩 , M·J·H·弗雷肯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/683
摘要： 一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并且配置成使得液体优先朝向主体表面的周边流动。
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公开(公告)号：CN108604067B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201680081344.7
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·D·J·A·范索姆恩 , C·H·M·伯尔蒂斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , J·C·P·梅尔曼 , G·纳基布奥格卢 , T·W·波莱 , W·T·M·斯托尔斯 , Y·J·G·范德费韦 , J·P·范利斯豪特 , J·A·维埃拉萨拉斯 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种衬底台(WT)配置成支撑衬底(W)以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体(30)，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面(31)；和盖环(130)，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面(60)；其中所述上表面的至少一部分(61)被配置成以便在沿着所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面(17)的稳定性。
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公开(公告)号：CN113253577A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110519796.1
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·D·J·A·范索姆恩 , C·H·M·伯尔蒂斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , J·C·P·梅尔曼 , G·纳基布奥格卢 , T·W·波莱 , W·T·M·斯托尔斯 , Y·J·G·范德费韦 , J·P·范利斯豪特 , J·A·维埃拉萨拉斯 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种衬底台(WT)配置成支撑衬底(W)以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体(30)，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面(31)；和盖环(130)，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面(60)；其中所述上表面的至少一部分(61)被配置成以便在沿所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面(17)的稳定性。
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公开(公告)号：CN108604067A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081344.7
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·D·J·A·范索姆恩 , C·H·M·伯尔蒂斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , J·C·P·梅尔曼 , G·纳基布奥格卢 , T·W·波莱 , W·T·M·斯托尔斯 , Y·J·G·范德费韦 , J·P·范利斯豪特 , J·A·维埃拉萨拉斯 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种衬底台(WT)配置成支撑衬底(W)以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体(30)，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面(31)；和盖环(130)，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面(60)；其中所述上表面的至少一部分(61)被配置成以便在沿着所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面(17)的稳定性。
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公开(公告)号：CN111474826A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010300332.7
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·纳齐博格鲁 , C·H·M·伯尔蒂斯 , S·A·特姆普 , Y·J·G·范德维基沃尔 , B·D·斯霍尔滕 , D·D·J·A·范索姆恩 , M·J·H·弗雷肯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并且配置成使得液体优先朝向主体表面的周边流动。
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公开(公告)号：CN108700815A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082291.0
申请日：2016-12-22
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： C·W·J·贝伦德森 , G·纳吉布奥格鲁 , D·D·J·A·范索姆恩 , G·里斯朋斯 , J·F·M·贝克尔斯 , T·J·A·伦克斯
CPC分类号： G03F7/2028 , G03F7/168
摘要： 本发明提供了一种处理衬底的方法，包括：提供衬底，所述衬底在所述衬底的表面上具有光敏材料层；和从光敏材料层的外边缘周围去除光敏材料，并控制所述去除以在衬底的表面上遗留的光敏材料层周围产生具有径向宽度的边缘，其中所述光敏材料的厚度变化，形成横跨径向宽度的厚度轮廓，并且所述去除被控制以产生厚度轮廓沿着所述边缘的长度的变化，和/或其中所述去除被控制以在衬底的表面上遗留的光敏材料层周围产生粗糙边缘。
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公开(公告)号：CN108700815B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN201680082291.0
申请日：2016-12-22
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： C·W·J·贝伦德森 , G·纳吉布奥格鲁 , D·D·J·A·范索姆恩 , G·里斯朋斯 , J·F·M·贝克尔斯 , T·J·A·伦克斯
摘要： 本发明提供了一种处理衬底的方法，包括：提供衬底，所述衬底在所述衬底的表面上具有光敏材料层；和从光敏材料层的外边缘周围去除光敏材料，并控制所述去除以在衬底的表面上遗留的光敏材料层周围产生具有径向宽度的边缘，其中所述光敏材料的厚度变化，形成横跨径向宽度的厚度轮廓，并且所述去除被控制以产生厚度轮廓沿着所述边缘的长度的变化，和/或其中所述去除被控制以在衬底的表面上遗留的光敏材料层周围产生粗糙边缘。
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公开(公告)号：CN108292109A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680070006.3
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·纳齐博格鲁 , C·H·M·伯尔蒂斯 , S·A·特姆普 , Y·J·G·范德维基沃尔 , B·D·斯霍尔滕 , D·D·J·A·范索姆恩 , M·J·H·弗雷肯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/683
摘要： 一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并且配置成使得液体优先朝向主体表面的周边流动。
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