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公开(公告)号：CN110809736B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN201880040335.2
申请日：2018-06-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·F·弗莱斯 , C·K·安德 , A·F·J·德格鲁特 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·J·詹森 , 保罗·詹森 , J·H·克洛特韦克 , P·S·A·克纳彭 , E·库尔干诺娃 , M·P·梅热尔 , W·R·梅金克 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , R·奥尔斯曼 , H·帕特尔 , 玛丽亚·皮特 , G·范德博世 , W·T·A·J·范登艾登 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , H·J·旺德杰姆 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 本发明涉及一种表膜组件，所述表膜组件包括表膜框架，所述表膜框架限定表膜所附接到的表面。所述表膜组件包括一个或更多个三维膨胀结构，所述三维膨胀结构允许所述表膜在应力下膨胀。本发明还涉及一种用于图案形成装置的表膜组件，包括用于使得表膜朝向图案形成装置和远离图案形成装置移动的一个或更多个致动器。
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公开(公告)号：CN114761877A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202080082014.6
申请日：2020-10-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·A·范霍尔 , D·米隆 , A·N·兹德拉夫科夫 , M·A·范德柯克霍夫
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/687
摘要： 本发明涉及用于改善光刻衬底保持件的抗腐蚀性的方法。本发明还涉及包括具有提高的耐腐蚀性的光刻衬底保持件的系统，以及涉及使用这种系统来制造例如集成电路的器件的方法。本发明还涉及具有被配置呈当在光刻中使用时被优先腐蚀的背面的衬底。本发明特别用于制造器件(例如，集成电路)的光刻设备。
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公开(公告)号：CN113253577A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110519796.1
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·D·J·A·范索姆恩 , C·H·M·伯尔蒂斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , J·C·P·梅尔曼 , G·纳基布奥格卢 , T·W·波莱 , W·T·M·斯托尔斯 , Y·J·G·范德费韦 , J·P·范利斯豪特 , J·A·维埃拉萨拉斯 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种衬底台(WT)配置成支撑衬底(W)以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体(30)，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面(31)；和盖环(130)，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面(60)；其中所述上表面的至少一部分(61)被配置成以便在沿所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面(17)的稳定性。
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公开(公告)号：CN109154771A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780025510.6
申请日：2017-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·纳萨莱维奇 , E·A·阿贝格 , N·班纳吉 , M·A·布劳 , 德克·S·G·布龙 , 保罗·詹森 , M·可鲁依宁嘉 , E·兰德林克 , N·马克西姆 , A·尼基帕罗夫 , A·W·诺滕博姆 , C·彼烈戈 , M·彼得 , G·里斯朋斯 , N·舒 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , A·W·弗尔堡 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 公开了一种用于EUV光刻术的隔膜。在一种布置中，隔膜包括具有成以下顺序的层的叠层：第一覆盖层，包括第一金属的氧化物；包括化合物的基层，所述化合物包括第二金属和选自由Si、B、C和N组成的组的附加元素；和第二覆盖层，包括第三金属的氧化物，其中第一金属与第二金属不同，第三金属与第一金属相同或不同。
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公开(公告)号：CN108700817A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082147.7
申请日：2016-12-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 保罗·詹森 , J·H·克洛特韦克 , W·T·A·J·范登艾登 , A·N·兹德拉夫科夫
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G03F7/70958
摘要： 公开制造隔膜组件的方法。在一个布置中，堆叠结构包括平面衬底和至少一个隔膜层。所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区。选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分。在去除之后的所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平面衬底的所述边界区形成；围绕所述边界的边缘区段，所述边缘区段由所述平面衬底的所述边缘区形成；所述边界与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层及所述平面衬底的所述桥接区的第二部分形成。所述方法还包括通过切割或断裂所述桥接件而将所述边缘区段与所述边界分离。
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公开(公告)号：CN108604067A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081344.7
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·D·J·A·范索姆恩 , C·H·M·伯尔蒂斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , J·C·P·梅尔曼 , G·纳基布奥格卢 , T·W·波莱 , W·T·M·斯托尔斯 , Y·J·G·范德费韦 , J·P·范利斯豪特 , J·A·维埃拉萨拉斯 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种衬底台(WT)配置成支撑衬底(W)以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体(30)，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面(31)；和盖环(130)，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面(60)；其中所述上表面的至少一部分(61)被配置成以便在沿着所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面(17)的稳定性。
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公开(公告)号：CN114706269A
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202210279387.3
申请日：2016-12-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 保罗·詹森 , J·H·克洛特韦克 , W·T·A·J·范登艾登 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 公开制造隔膜组件的方法。在一个布置中，堆叠结构包括平面衬底和至少一个隔膜层。所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区。选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分。在去除之后的所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平面衬底的所述边界区形成；围绕所述边界的边缘区段，所述边缘区段由所述平面衬底的所述边缘区形成；所述边界与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层及所述平面衬底的所述桥接区的第二部分形成。所述方法还包括通过切割或断裂所述桥接件而将所述边缘区段与所述边界分离。
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公开(公告)号：CN114503034A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080068335.0
申请日：2020-09-21
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·萨菲诺斯基 , 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于光刻设备的清洁装置(10)，所述清洁装置包括：辐射源(2)，所述辐射源被配置成供应能够从所述光刻系统的光学部件(IL；PS)或其它部件的表面去除水或其它污染物的净化辐射(8)；其中，所述清洁装置被配置成由在由所述光刻设备执行的曝光过程期间夹持图案形成装置的夹具(7)夹持。
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公开(公告)号：CN108604067B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201680081344.7
申请日：2016-11-02
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·D·J·A·范索姆恩 , C·H·M·伯尔蒂斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , J·C·P·梅尔曼 , G·纳基布奥格卢 , T·W·波莱 , W·T·M·斯托尔斯 , Y·J·G·范德费韦 , J·P·范利斯豪特 , J·A·维埃拉萨拉斯 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种衬底台(WT)配置成支撑衬底(W)以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体(30)，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面(31)；和盖环(130)，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面(60)；其中所述上表面的至少一部分(61)被配置成以便在沿着所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面(17)的稳定性。
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公开(公告)号：CN117348336A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202311305385.8
申请日：2018-06-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·F·弗莱斯 , C·K·安德 , A·F·J·德格鲁特 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·J·詹森 , 保罗·詹森 , J·H·克洛特韦克 , P·S·A·克纳彭 , E·库尔干诺娃 , M·P·梅热尔 , W·R·梅金克 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , R·奥尔斯曼 , H·帕特尔 , 玛丽亚·皮特 , G·范德博世 , W·T·A·J·范登艾登 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , H·J·旺德杰姆 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 本发明涉及一种表膜组件、一种制备表膜组件的方法、一种用于光刻设备的动态气锁以及一种光刻设备。所述表膜组件包括表膜框架，所述表膜框架限定表膜所附接到的表面。所述表膜组件包括一个或更多个三维膨胀结构，所述三维膨胀结构允许所述表膜在应力下膨胀。本发明还涉及一种用于图案形成装置的表膜组件，包括用于使得表膜朝向图案形成装置和远离图案形成装置移动的一个或更多个致动器。
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