公开(公告)号：CN102483581B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201080037143.X

申请日：2010-04-09

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 埃德温·比伊斯 ,  G·德维里斯 ,  F·布恩

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70116 ,  G02B7/1821

摘要： 本发明公开了一种光学设备，具有可移动反射元件(110)和相关的致动器(109)。所述致动器包括第一磁体(113)和第二磁体(114)，所述第一磁体连接至所述可移动反射元件使得所述第一磁体的移动将导致所述可移动反射元件移动，所述第二磁体连接至马达(116)使得所述马达的操作将导致所述第二磁体移动，其中所述第二磁体被相对于所述第一磁体定位，使得移动所述第二磁体将导致所述第一磁体移动。

公开(公告)号：CN102483584A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201080037493.6

申请日：2010-03-18

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： G·德维里斯 ,  埃德温·比伊斯 ,  M·范达姆 ,  J·范斯库特 ,  F·布恩 ,  H·科瑞沃

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70116 ,  G03F7/70075

摘要： 公开了一种照射系统，该照射系统具有可以配置成形成照射模式的多个可移动反射元件(22a、22b、22c)和相关的致动器。所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动，并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件(22a、22b、22c)，所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件(22a、22b、22c)反射的辐射形成所述照射模式的一部分，所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成照射模式的一部分。

公开(公告)号：CN102483581A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201080037143.X

申请日：2010-04-09

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 埃德温·比伊斯 ,  G·德维里斯 ,  F·布恩

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70116 ,  G02B7/1821

摘要： 本发明公开了一种光学设备，具有可移动反射元件(110)和相关的致动器(109)。所述致动器包括第一磁体(113)和第二磁体(114)，所述第一磁体连接至所述可移动反射元件使得所述第一磁体的移动将导致所述可移动反射元件移动，所述第二磁体连接至马达(116)使得所述马达的操作将导致所述第二磁体移动，其中所述第二磁体被相对于所述第一磁体定位，使得移动所述第二磁体将导致所述第一磁体移动。

公开(公告)号：CN102483584B

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201080037493.6

申请日：2010-03-18

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： G·德维里斯 ,  埃德温·比伊斯 ,  M·范达姆 ,  J·范斯库特 ,  F·布恩 ,  H·科瑞沃

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70116 ,  G03F7/70075

摘要： 本发明公开了一种照射系统，该照射系统具有可以配置成形成照射模式的多个可移动反射元件(22a、22b、22c)和相关的致动器。所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动，并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件(22a、22b、22c)，所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件(22a、22b、22c)反射的辐射形成所述照射模式的一部分，所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成照射模式的一部分。