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公开(公告)号：CN104871090B
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201380063824.7
申请日：2013-09-17
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70091 , G01C9/06 , G01C2009/066 , G02B7/1821 , G03F7/70116 , H01F7/0231 , H01F7/206 , H01H2051/2218 , H02K41/00
摘要： 一种用于使例如反射镜位移的致动器(300)，通过改变两个电磁体(370、372、376、378)中的电流提供了具有至少两个自由度的运动。移动部分包括具有被约束为在工作区域之上移动的磁面的永磁体(362)，该工作区域基本上位于垂直于磁体的磁化的方向的第一平面中。电磁体具有基本上位于与第一平面接近平行的第二平面中的极面(380、382)，每个极面基本上填充由移动磁体的面横切的区域的四分之一。光学位置传感器(390)可以通过在电磁体之间的中心空间将辐射束(398)引导在移动磁体处。可以使光瞳反射镜装置中的琢面的尺寸在外围区域中较小，而在中心区域中较大，由此放松聚焦要求。
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公开(公告)号：CN102483584B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201080037493.6
申请日：2010-03-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075
摘要： 本发明公开了一种照射系统，该照射系统具有可以配置成形成照射模式的多个可移动反射元件(22a、22b、22c)和相关的致动器。所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动，并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件(22a、22b、22c)，所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件(22a、22b、22c)反射的辐射形成所述照射模式的一部分，所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成照射模式的一部分。
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公开(公告)号：CN102483584A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080037493.6
申请日：2010-03-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075
摘要： 公开了一种照射系统，该照射系统具有可以配置成形成照射模式的多个可移动反射元件(22a、22b、22c)和相关的致动器。所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动，并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件(22a、22b、22c)，所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件(22a、22b、22c)反射的辐射形成所述照射模式的一部分，所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成照射模式的一部分。
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公开(公告)号：CN104871090A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201380063824.7
申请日：2013-09-17
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70091 , G01C9/06 , G01C2009/066 , G02B7/1821 , G03F7/70116 , H01F7/0231 , H01F7/206 , H01H2051/2218 , H02K41/00
摘要： 一种用于使例如反射镜位移的致动器(300)，通过改变两个电磁体(370、372、376、378)中的电流提供了具有至少两个自由度的运动。移动部分包括具有被约束为在工作区域之上移动的磁面的永磁体(362)，该工作区域基本上位于垂直于磁体的磁化的方向的第一平面中。电磁体具有基本上位于与第一平面接近平行的第二平面中的极面(380、382)，每个极面基本上填充由移动磁体的面横切的区域的四分之一。光学位置传感器(390)可以通过在电磁体之间的中心空间将辐射束(398)引导在移动磁体处。可以使光瞳反射镜装置中的琢面的尺寸在外围区域中较小，而在中心区域中较大，由此放松聚焦要求。
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