公开(公告)号：CN100524041C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200510081963.X

申请日：2005-07-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·B·杰尤宁克 ,  M·阿克斯萨 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  F·A·C·M·科米斯萨里斯 ,  R·M·范迪克 ,  S·德戈鲁特 ,  W·T·特 ,  A·H·M·范德霍夫 ,  A·范德是塔特

IPC分类号： G03F7/207

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/705 ,  G03F7/706 ,  G03F9/7046

摘要： 为对特定应用最重要的这些像差要比对特定应用不太重要的像差给予优先补偿，在光刻投射装置中被使用这样一种制造方法。在具有接受图像的目标部分的衬底，按照所要的图案化应用赋予图案的掩模和将选择的辐射束投射在掩模上产生特定要求的图案化束从而在目标部分形成图案的图像的投射系统中，该方法包括：预测投射系统像差随时间变化；确定这样预测的投射系统像差变化相对一些测量的像差值对一些图像参数的应用相关影响；按照投射系统中这种预测的投射系统像差随时间的变化和它们对一些图像参数的应用相关影响产生针对所要求图案化束的控制信号；以及按照控制信号执行图像调节以补偿预测的图像像差变化应用相关影响。

公开(公告)号：CN1722001A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510081963.X

申请日：2005-07-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·B·杰尤宁克 ,  M·阿克斯萨 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  F·A·C·M·科米斯萨里斯 ,  R·M·范迪克 ,  S·德戈鲁特 ,  W·T·特 ,  A·H·M·范德霍夫 ,  A·范德是塔特

IPC分类号： G03F7/207

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/705 ,  G03F7/706 ,  G03F9/7046

摘要： 为对特定应用最重要的这些像差要比对特定应用不太重要的像差给予优先补偿，在光刻投射装置中被使用这样一种制造方法。在具有接受图像的目标部分的衬底，按照所要的图案化应用赋予图案的掩模和将选择的辐射束投射在掩模上产生特定要求的图案化束从而在目标部分形成图案的图像的投射系统中，该方法包括：预测投射系统像差随时间变化；确定这样预测的投射系统像差变化相对一些测量的像差值对一些图像参数的应用相关影响；按照投射系统中这种预测的投射系统像差随时间的变化和它们对一些图像参数的应用相关影响产生针对所要求图案化束的控制信号；以及按照控制信号执行图像调节以补偿预测的图像像差变化应用相关影响。