公开(公告)号：CN1573566A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410047824.0

申请日：2004-05-31

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： D·F·库伊佩 ,  J·C·康普特 ,  J·范埃克 ,  J·F·莫莱纳亚 ,  D·C·奥克维尔 ,  J·W·M·C·蒂尤森 ,  M·P·范德尔森 ,  G·P·J·范德霍文 ,  M·J·维沃德多克 ,  M·G·帕尔多 ,  G·J·维多斯 ,  G·J·P·尼塞 ,  P·F·格里维 ,  J·范沃斯特 ,  M·M·P·A·维梅伦 ,  A·H·弗维

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70858

摘要： 一种具有掩模装置的光刻投影装置，所述掩模装置用于遮盖至少一个构图装置的部分，所述构图装置用于在投影光束将带图案光束成像在基底上之前对投影光束进行构图。所述掩模装置包括在第一方向遮盖所述构图装置的部分的第一掩模装置，以及在第二不同方向遮盖所述部分的第二掩模装置，其中所述第一和第二掩模装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近。

公开(公告)号：CN1573566B

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200410047824.0

申请日：2004-05-31

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： D·F·库伊佩 ,  J·C·康普特 ,  J·范埃克 ,  J·F·莫莱纳亚 ,  D·C·奥克维尔 ,  J·W·M·C·蒂尤森 ,  M·P·范德尔森 ,  G·P·J·范德霍文 ,  M·J·维沃德多克 ,  M·G·帕尔多 ,  G·J·维多斯 ,  G·J·P·尼塞 ,  P·F·格里维 ,  J·范沃斯特 ,  M·M·P·A·维梅伦 ,  A·H·弗维

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70858

摘要： 一种具有掩模装置的光刻投影装置，所述掩模装置用于遮盖至少一个构图装置的部分，所述构图装置用于在投影光束将带图案光束成像在基底上之前对投影光束进行构图。所述掩模装置包括在第一方向遮盖所述构图装置的部分的第一掩模装置，以及在第二不同方向遮盖所述部分的第二掩模装置，其中所述第一和第二掩模装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近。