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公开(公告)号：CN106502056B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610567115.8
申请日：2016-07-19
申请人： 旭东机械工业股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H05K3/3452 , G03F7/70858 , G03F7/70933 , H05K3/0023 , H05K3/0026 , H05K2203/107
摘要： 本发明是关于一种激光直接曝光设备及方法，其能使传统显像型液态防焊油墨曝光后的油墨光泽度媲美经传统汞灯曝光机的曝光效果。该设备包括一机台、一激光装置及一减氧装置。该机台具有一台面，供放置一待曝光基板。该激光装置设于该机台，用以输出一或多道激光束。该减氧装置与该激光装置连动，用以在该基板的表面建造一减氧环境，以使该激光装置得以在减氧环境下对该基板进行曝光。
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公开(公告)号：CN106997150A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201610044309.X
申请日：2016-01-22
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70883 , G03F7/70858
摘要： 本发明公开了一种降低光刻物镜压力灵敏度的方法及其应用，该方法包括以下步骤：首先对光刻物镜内的各个透镜间隔针对空气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量，并对所有测量数据进行求和得到总和A；接着根据得到的总和A的正负情况，找出与总和A正负一致的N个压力灵敏度最大的透镜间隔，N为≥1的整数；其次对选出的N个透镜间隔针对氦气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量；再次根据选出的N个透镜间隔在S1和S3中的压力灵敏度测量值，计算氦气对应的压力灵敏度减小率；最后计算该N个透镜间隔内氦气的比例，使各个透镜间隔的压力灵敏度测量数据之和接近于0。本发明简化了光刻物镜结构的设计难度，节省了物镜开发成本，提高了光刻物镜的套准精度。
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公开(公告)号：CN104380433B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201380032053.5
申请日：2013-05-30
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70858
摘要： 本文描述一种用于处理基板的装置。装置可包括辐射源及孔洞，所述孔洞经定位以接收来自辐射源的辐射能。孔洞可包括一或更多构件及一或更多干涉区域，其中干涉区域环绕透射区域。一或更多结构可影响穿过孔洞的透射区域的部分的辐射能的透射。安置于孔洞上的结构可减少或重定向透射，以提供穿过孔洞的辐射能的更均匀的整体透射。
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公开(公告)号：CN106030413A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201580009245.3
申请日：2015-01-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·纳齐博格鲁 , M·范巴伦 , F·J·J·范鲍克斯台尔 , K·库依皮尔斯 , J·G·高森 , L·J·A·凡鲍克霍文
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70908
摘要： 本发明提供一种包括阻挡系统(3)的光刻设备，及使用如所描述的光刻设备中的任一个的器件制造方法。所述阻挡系统用以维持阻挡装置(4)内的气体的受保护体积。可在所述光刻设备的不同部件相对于彼此而移动时维持所述受保护体积。所述阻挡系统可用于所述光刻设备内的不同部位中。所述阻挡装置的几何构型影响所述受保护体积如何高效地被维持，尤其是在高速的情况下。本发明的几何构型减少从所述阻挡装置外部进入所述受保护体积的环境气体的量。
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公开(公告)号：CN104111588B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201410270432.4
申请日：2008-07-16
申请人： 株式会社尼康
发明人： 荒井大
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
摘要： 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。
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公开(公告)号：CN104321702A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201380026160.7
申请日：2013-03-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·劳伦特 , J·H·W·雅各布斯 , H·考克 , Y·范德维基维尔 , J·范德瓦尔 , B·克拿伦 , R·J·伍德 , J·S·C·维斯特尔拉肯 , H·范德里基德特 , E·库伊克尔 , W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 , Y·B·Y·特莱特
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70666 , G03F7/70858 , G03F7/70891
摘要： 一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻。因此，热流更倾向于流向温度调节装置而不是浸没液体，使得能够减小或最小化浸没液体中的温度引发的扰动。
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公开(公告)号：CN104122760A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410333238.6
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN104111588A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410270432.4
申请日：2008-07-16
申请人： 株式会社尼康
发明人： 荒井大
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
摘要： 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。
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公开(公告)号：CN104111587A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410270424.X
申请日：2008-07-16
申请人： 株式会社尼康
发明人： 荒井大
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
摘要： 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。
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公开(公告)号：CN102323724B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201110268975.9
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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