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公开(公告)号:CN101794079A
公开(公告)日:2010-08-04
申请号:CN200910253825.3
申请日:2009-12-08
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: T·E·J·克娜蓬 , R·J·布鲁斯 , Y·J·L·M·范多麦伦 , J·H·W·雅克布斯 , M·H·卡姆普斯 , P·M·M·利布瑞格特斯 , R·A·J·马斯 , M·K·斯塔文卡 , C·C·W·沃斯帕盖特 , R·J·M·皮伦斯 , J·C·范德豪文 , D·L·恩斯陶特兹 , G-J·G·J·T·布朗德斯 , M·J·范德赞登 , V·K·巴达姆 , C·R·德格鲁特
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70925 , G03B27/52 , G03F7/70341
摘要: 本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备具有包括目标和/或传感器的台,和用以采用局部气流从目标和/或传感器转移液体的液体转移装置。液体转移装置可以定位在多个位置处,例如安装在曝光站处的液体处理装置、邻近曝光站和测量站之间的传递路径或位于曝光站和测量站之间的移动路径中、以及位于装载/卸载站处或邻近传感器。