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公开(公告)号:CN101903808B
公开(公告)日:2014-02-26
申请号:CN200880121899.5
申请日:2008-12-19
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: B·克鲁兹卡 , M·G·D·维瑞恩斯 , M·D·奈格克 , K·F·费尼斯达
CPC分类号: G02B5/1838 , G02B5/1857 , G02B5/1861 , G03F7/70316 , G03F7/706 , G21K1/06 , G21K1/067
摘要: 一种用于EUV辐射的光栅,所述光栅包括:多个反射线。每一反射线包括彼此相间布置的多个第一反射点和多个第二反射点。所述第一反射点和所述第二反射点被配置成以满足除以360度余180±10度条件的相互相位差来反射EUV辐射。
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公开(公告)号:CN101903808A
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200880121899.5
申请日:2008-12-19
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: B·克鲁兹卡 , M·G·D·维瑞恩斯 , M·D·奈格克 , K·F·费尼斯达
CPC分类号: G02B5/1838 , G02B5/1857 , G02B5/1861 , G03F7/70316 , G03F7/706 , G21K1/06 , G21K1/067
摘要: 一种用于EUV辐射的光栅,所述光栅包括:多个反射线。每一反射线包括彼此相间布置的多个第一反射点和多个第二反射点。所述第一反射点和所述第二反射点被配置成以满足除以360度余180±10度条件的相互相位差来反射EUV辐射。
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