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    辐射系统
    3.
    发明授权
    辐射系统 有权

    公开(公告)号：CN107430348B

    公开(公告)日：2021-09-24

    申请号：CN201680013084.X

    申请日：2016-02-16

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： H-K·尼恩惠斯 ,  埃里克·W·博加特 ,  R·L·唐克 ,  B·克鲁兹卡 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·博特马 ,  G·C·德弗里斯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  J·J·M·巴塞曼斯

    IPC分类号： G03F7/20

    摘要： 一种辐射系统包括：分束设备，配置成接收主辐射束且将所述主辐射束分成多个分支辐射束；和辐射更改装置，布置成接收输入辐射束且输出修改后的辐射束，其中所述辐射更改装置配置成提供输出的修改后的辐射束，所述输出的修改后的辐射束在与所述所接收的输入辐射束相比较时具有增加的集光率，其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束为主辐射束，且所述辐射更改装置配置成将修改后的主辐射束提供至所述分束设备，或其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束是从所述分束设备输出的分支辐射束。

    光学元件、辐射系统及光刻系统
    5.
    发明授权
    光学元件、辐射系统及光刻系统 有权

    公开(公告)号：CN110083019B

    公开(公告)日：2021-05-25

    申请号：CN201910106311.9

    申请日：2014-09-24

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： R·栋克尔 ,  E·鲁普斯特拉 ,  H-K·尼恩惠斯 ,  B·克鲁兹卡

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H01S3/09

    摘要： 本申请公开了一种光学元件、辐射系统及光刻系统。该光学元件包括：主体；反射性表面，所述反射性表面设置于所述主体上以用于接收辐射束以便形成束斑区域和反射的辐射束；和移动机构，所述移动机构能够操作以移动所述主体使得所述束斑区域遵循周期性路径在所述反射性表面上移动，并且所述反射的辐射束的方向实质上保持不变；用于更改所述反射性表面的曲率的变形机构，其中所述变形机构被布置成更改所述反射性表面的所述曲率以便至少部分地校正由入射于所述反射性表面上的所述辐射束所导致的所述反射性表面的曲率。